~ CVDプロセス、ALDプロセスの均一性と量産性に対する論理的な最適化技術、ALEの選択性とデバイス応用 ~
・経験的な最適化ではなくCVD、ALDプロセスを論理的に最適化するための講座
・機能性材料・デバイス作製のためのCVDプロセス、ALDプロセスを最適化し、新規プロセス開発や設計に活かそう
・WEB会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください。
~ CVDプロセス、ALDプロセスの均一性と量産性に対する論理的な最適化技術、ALEの選択性とデバイス応用 ~
・経験的な最適化ではなくCVD、ALDプロセスを論理的に最適化するための講座
・機能性材料・デバイス作製のためのCVDプロセス、ALDプロセスを最適化し、新規プロセス開発や設計に活かそう
・WEB会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください。
本講義では、CVDプロセスならびにALDプロセスの速度論に基づいた基礎知識を習得し、量産性と均一性など相反する目標に対してプロセスを最適設計する指針を得ることを目標とします。これまで経験的に最適化されることが多かったCVD、ALDプロセスを論理的に最適化するための考え方を身に着けて頂ければと思います。すべてを正確に理解していただくには10時間以上の講義により丁寧に説明するべきですが、上記のプロセスの論理的最適化、プロセス設計の方法論の糸口をつかんで頂ければと考えています。
開催日時 |
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開催場所 | オンラインセミナー |
カテゴリー | オンラインセミナー、加工・接着接合・材料、研究開発・商品開発・ ビジネススキル |
受講対象者 | ・デバイスメーカー、装置メーカー等において薄膜作製プロセスを利用したり開発している方を対象とします |
予備知識 | ・PVD/CVD/ALDなどの薄膜作製プロセスについて、どのようなものであるか、また、どのように応用するものであるかについてはある程度知っておられることを前提にしています |
修得知識 |
・CVDプロセス、ALDプロセスを最適化する、プロセスを新規に設計するために必要な検討項目などが理解できるはずです ・本講義はそのような目的のための概論なので、機能性材料・デバイス作製のためのCVDプロセス、ALDプロセスを最適化し、新規プロセス開発や設計に活かそうには、上記の各項目につき少なくとも1時間以上の講義を受けて頂く必要があると思います |
プログラム |
1.CVDプロセスの概要と特徴 (1).CVDプロセスとは (2).CVDプロセスの長所と応用事例 (3).CVDプロセスとALDプロセスの共通点と相違点
2.CVDプロセスの速度論と平衡論 (1).速度支配プロセスと平衡支配プロセス (2).反応速度論の基礎 (3).CVDプロセスの反応機構、素反応と総括反応 (4).量子化学計算による反応機構・反応速度の推算
3.シンプルなケミストリーを前提としたCVD製膜速度論 (1).1次反応の速度式 (2).製膜速度の温度依存性-表面反応律速と拡散律速の正確な理解 (3).製膜速度の濃度依存性-Langmuir-Hinshelwood型速度式 (4).表面反応機構と速度の量子化学計算
4.CVDプロセスの均一性と量産性 (1).マクロな均一性-反応器内、ウェハ面内の均一性 (2).ミクロな均一性 (3).ステップカバレッジを利用した表面反応速度の解析
5.CVDプロセスにおける気相反応の影響 (1).気相反応による中間体の生成とその影響 (2).素反応メカニズムと素反応シミュレーション (3).複合反応の解析手法-円環型反応器解析、MMC(Micro/Macro Cavity)法
6.CVDプロセスにおける初期核発生と成長 (1).AI‐CVD、Cu‐CVDにおける初期核発生 (2).光反射測定を用いた初期核発生のその場観察
7.選択成長プロセス (1).選択W‐CVD成長 (2).化合物半導体の選択MOVPE成長
8.ALDプロセスの概要と特徴 (1).ALDプロセスとは (2).ALDプロセスの歴史的発展 (3).ALDの特徴と応用
9.ALDプロセスの基礎 (1).ALDプロセスの理想特性と現実 (2).ALD‐Windowとは? (3).吸着速度式 (4).ALD‐Windowの達成条件と阻害因子
10.ALDプロセスの均一性と量産性 (1).ALDプロセスの均一性-マクロな均一性とミクロな均一性 (2).ALDプロセスのスループットと最適化 |
キーワード | CVDプロセス ALDプロセス 温度依存性 濃度依存性 ステップカバレッジ 気相反応 複合反応 初期核発生 選択成長プロセス ラジカルプロセス インキュベーションサイクル 化学工学 デバイスプロセス |
タグ | プラズマ、研究開発、商品開発、真空、薄膜、表面改質、LSI・半導体 |
受講料 |
一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込) |
会場 |
オンラインセミナー本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。 |
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営業時間 月~金:9:00~17:00 / 定休日:土日・祝日