半導体デバイスの製造プロセスにおける物理的洗浄技術および製造工程におけるAIの活用法 <オンラインセミナー>
半導体デバイスの製造プロセスにおける物理的洗浄技術および製造工程におけるAIの活用法 <オンラインセミナー>
半導体デバイス製造の基礎から物理的洗浄の原理とプロセスを学び、高品質なデバイス開発へ応用するための講座
・半導体デバイス製造の基礎、半導体デバイスの物理的洗浄プロセスを学び、高品質なデバイス製造プロセスや開発に活かそう!
・半導体デバイス製造時の静電気障害防止のためのAIを用いた防止対策技術をご紹介します
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・WEB会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください
講師の言葉
今や半導体は我々の生活の上でなくてはならないものである。最近では半導体そのものが戦略物資となるほどに重要である。
このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーではできるだけ工学基礎(半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI)も説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。
また講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても述べます。半導体デバイス製造プロセスにどのようにAIが用いることができるがヒントになると幸いです。
基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる数年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。
講義後、質疑応答の時間以外にもメールにてご質問にもお答え致します。
セミナー詳細
開催日時 |
- 2023年09月27日(水) 10:30 ~ 17:30
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開催場所 |
オンラインセミナー |
カテゴリー |
オンラインセミナー、電気・機械・メカトロ・設備、化学・環境・異物対策、品質・生産管理・ コスト・安全、研究開発・商品開発・ ビジネススキル |
受講対象者 |
・半導体デバイス業界に興味がある方
・半導体デバイス製造に関する会社にお勤めの1年から2年の方
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予備知識 |
・特に必要ありません |
修得知識 |
・電気の基礎の基礎
・半導体デバイス製造の基礎
・半導体デバイスの物理的洗浄プロセス
・製造工程における静電気障害防止
・製造工程におけるAI活用法
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プログラム |
1.半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向
2.半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
(1).電気の基礎
(2).半導体の基礎
(3).半導体製造プロセス
3.半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
(1).化学的洗浄
(2).物理的洗浄
4.水流を利用した洗浄について
(1).流体力学の基礎
(2).高圧スプレー洗浄
(3).二流体スプレー洗浄
(4).超音波洗浄スプレー洗浄
(5).ブラシ洗浄
(6).次世代の物理的洗浄技術
5.スプレー洗浄時の静電気障害
(1).静電気の基礎
(2).半導体デバイスの洗浄の静電気障害
(3).スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
6.AIを用いた半導体デバイスの生産技術
(1).AIの基礎
(2).半導体製造に用いられるAI
(3).静電気障害防止を例にしたAIの活用法
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キーワード |
半導体デバイス 物理的洗浄 水流 流体力学 スプレー洗浄 ブラシ洗浄 静電気障害 超音波洗浄 スプレー洗浄 化学的洗浄 |
タグ |
リスク管理、研究開発、商品開発、生産管理、洗浄、未然防止、ノイズ対策・EMC・静電気、設備、電子部品、LSI・半導体 |
受講料 |
一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
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会場 |
オンラインセミナー
本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。
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