パワー半導体用SiCウェハ製造技術(結晶成長、加工、評価)の基礎と開発へのポイント  <オンラインセミナー>

~ SiCの基礎と物性およびSiCパワー半導体への応用、結晶欠陥と制御、SiCウェハの切断、研削、研磨技術 ~

・低損失なSiCパワー半導体開発に不可欠なSiCの結晶成長技術から高速・高精度な加工技術までを修得する講座

・シリコンより極めて技術的に難しいSiCウェハ製造技術の基礎から応用までを修得し、高品位で低コストなSiCウェハとデバイスの開発実現に活かそう!

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講師の言葉

 カーボンニュートラル社会の実現にはエネルギーの高効率利用技術が不可欠であり、近年、新しい電力制御機器には低損失なSiCパワー半導体の搭載が進みつつある。半導体向けSiCウェハは今後、8インチの大口径化へ量産品の開発が進められるが、SiCは極めて安定でダイヤモンドに匹敵する堅牢な結晶であるため、そのウェハ製造はシリコンより極めて技術的に難しい側面もある。

 本セミナーではSiC単結晶成長からウェハ加工、それらの材料評価技術に関する、基礎から応用、技術開発動向について解説し、高品位質で低コストなウェハを実現する製造技術について議論する

セミナー詳細

開催日時
  • 2023年05月12日(金) 10:30 ~ 17:30
開催場所 オンラインセミナー
カテゴリー オンラインセミナー電気・機械・メカトロ・設備加工・接着接合・材料
受講対象者 ・SiCパワー半導体やSiC材料開発に興味のある方
・結晶工学・ウェハ加工技術・材料評価技術に関心のある方
・パワーデバイス、半導体、半導体製造装置ほか関連部門の技術者の方

予備知識 ・特に必要としません、基礎からわかりやすく解説します
修得知識 ・半導体用SiCウェハ製造技術(結晶成長、加工、評価)の基礎知識
・SiCウェハ製造技術の開発動向や技術課題、SiCウェハ産業の今後の動向に関す
プログラム

1.SiCパワー半導体の開発動向とSiCウェハ開発

(1).SiCの基礎と物性

  a.身近なSiC

  b.ワイドギャップ半導体と特徴

  c.SiCウェハ

  d.他半導体材料とSiCの違い

(2).SiCパワー半導体への応用

  a.SiCを使ったパワーエレクトロニクス技術

  b.SiCパワー素子がもたらす技術変革・応用事例

(3).SiCウェハの材料技術開発の動向と市場の要求

  a.パワー半導体用SiCウェハ開発の歴史

  b. 国内・外でのSiCウェハ開発動向

  c.SiCウェハ開発に対する今後の期待

 

2.SiC単結晶製造技術

(1).SiC単結晶の合成・成長方法

  a.SiCの合成

  b.SiC単結晶の量産技術

  c.各種SiC単結晶成長技術の特徴

  d.シリコンから見たSiC単結晶製造技術の課題と期待

(2).結晶多形と特徴

  a.SiCの結晶多形(ポリタイプ)と物性

  b.多形制御技術

(3).結晶欠陥と制御

  a.SiC単結晶の結晶欠陥と影響

  b.SiC単結晶の欠陥評価技術

  c.SiC単結晶の欠陥抑制技術

(4).大口径結晶の成長

  a.SiC単結晶の口径拡大成長技術

  b.大口径化がもたらす効果と技術課題

(5).N/p型の伝導度制御

  a.SiC単結晶の伝導度制御

  b.SiC単結晶の低抵抗化技術

 

3.SiCウェハ加工技術

(1).SiCのウェハ加工

・SiCウェハ加工工程と技術課題

(2).ウェハ切断工程

  a.SiC単結晶の切断技術

  b.切断工程の高速化技術

  c.切断工程の課題と新しい切断技術

(3).ウェハ研削工程

  a.SiCウェハの研削加工

  b.研削加工の高速・鏡面化技術

  c.研削工程の課題と新しい研削加工技術

(4).ウェハ研磨工程

  a.SiCウェハの研磨加工

  b.研磨加工と研削加工の特徴や違い

  c.研磨工程の課題と新しい研削加工技術

(5).CMP工程

  a.SiCウェハのCMP加工

  b.CMPの高速化技術

  c.CMP工程の課題と新しいCMP加工技術

(6).加工変質層と評価

  a.加工が及ぼすSiCウェハ表面の加工変質層とその特徴

  b.加工変質層の評価技術

  c.加工変質層の抑制技術

(7).大口径化対応

  a.SiCウェハ加工における大口径化対応の技術課題

  b.大口径化対応へ向けた解決策の検討

キーワード SiCパワー半導体 SiCウェハ開発 SiC単結晶製造技術 結晶多形 多形制御技術 結晶欠陥 伝導度制御 SiCウェハ加工技術 CMP 加工変質層 大口径化対応

タグ 研究開発商品開発研磨パワーデバイス表面改質基板・LSI設計電子部品LSI・半導体
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
オンラインセミナー
本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。
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