～ G線、I線、KrF、ArF、ArF液浸、EUVリソグラフィー技術と評価、ナノインプリント技術、DSA技術 ～
・リソグラフィー技術を体系的に学び、半導体の微細化、高集積化に対応するための修得講座
・プロセスの最適化技術に有用なレジスト評価技術と最新のリソグラフィー技術を修得し、より微細化が求められている電子デバイスの開発に応用しよう！
・ＷＥＢ会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください。
微細化に対応するためのリソグラフィー技術の基礎とレジスト評価のポイント ＜オンラインセミナー＞
講師の言葉
フォトリソグラフィーの歴史は、約４０年になります。g線レジストから始まり、i線、KrF、ArF、ArF液浸、EUVと世代が交代し、現在、最先端デバイスは、EUVリソグラフィー技術を用いて、１０nmレベルのパターニングにより作られます。
本講座では、フォトリソグラフィーの歴史を紐解きながら、各世代のリソグラフィーの特徴と、レジスト開発、プロセスの最適化技術に有用なレジスト評価技術について解説します。
セミナー詳細
| 開催日時 |
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|---|---|
| 開催場所 | オンラインセミナー |
| カテゴリー | オンラインセミナー、電気・機械・メカトロ・設備 |
| 受講対象者 |
・リソグラフィーを担当している技術者、研究者の方で初学者から中堅クラスの方 ・半導体、ディスプレイ、MEMS、センサ、太陽電池などのデバイス開発、製造に携わる方 |
| 予備知識 | ・工学系の高校、専門学校、大学の卒業レベルの知識 |
| 修得知識 |
・リソグラフィー技術と特徴 ・露光技術、レジスト技術およびレジスト評価技術の概要 |
| プログラム |
１．リソグラフィー技術の概要 ２．G線、I線リソグラフィー技術（ノボラックレジスト）の概要と評価 ３．KrFリソグラフィー技術（PHS系レジスト）の概要と評価 ５．EUVリソグラフィー技術の概要と評価 ６．次時世代リソグラフィーの概要 |
| キーワード | リソグラフィー 露光装置 レジスト材料 G線 I線リソグラフィー技術 ノボラックレジスト 分画化レジスト フェノール添加 KrFリソグラフィー技術 PHS系レジスト ArFリソグラフィー技術 アクリル系レジスト PAG EUVリソグラフィー ナノインプリント DSA |
| タグ | 電子部品、LSI・半導体 |
| 受講料 |
一般 (1名)：49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名)：44,000円(税込) |
| 会場 |
オンラインセミナー本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。 |
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