3次元積層型集積回路(3D-IC)の基礎と実装技術およびそのポイント <オンラインセミナー>

~ 先端半導体パッケージの技術動向、3D-IC技術、各社の先端半導体パッケージング技術の開発動向、チップレットインテグレーションの最前線と例、FOWLP:パッケージ(電子部品)技術 ~

・先端半導体パッケージの基礎から3D-IC/TSV技術までを修得し、回路設計および実装技術に活かすための講座!

・3D-ICを中心とした先端の半導体実装技術を修得し、半導体パッケージング技術の開発、設計、製造に応用しよう!

・Committeeの立場からECTC2024の傾向についてもコメントがあります!

 

オンラインセミナーの詳細はこちら:

・WEB会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください

講師の言葉

 High-Performance Computing (HPC)で必要とされるDRAMは三次元積層型メモリHBM (High-Bandwidth Memory) が標準となり、チップレット化されてSiインターポーザに三次元実装されている。シリコン貫通配線TSV (Through-Si Via)を使用した実装形態であり、チップ間の配線長を最短にして高性能化を実現している。最近では、TSVが採用されていなかったロジックデバイスもチップレット化が加速し、TSVを介して分離されたSRAMと積層される構造が市場導入されている。

 一方、Siインターポーザの高コスト化を懸念して、有機インターポーザやSiブリッジ、さらにはFan-out Wafer-level Packaging (FOWLP)を応用した再配線RDL (Re-Distributed Layer)を利用するなど、多種多様な三次元実装形態が登場し多様化も進んでいる。このように3D-ICが高性能デバイスシステムの主役となり、それらをつなぐ高密度中継基板(インターポーザ)の開発が激化し、今後もこの傾向が続くと思われる。

 本講座では、3D-ICを中心とした先端の半導体実装技術に焦点を当て、最近の研究開発動向を詳解する。また、世界最大の半導体パッケージング技術の国際会議であるECTCで2023年6月に発表された最新の内容についても紹介する。特に、最近注目を集めるハイブリッド接合技術について、ここ数年のECTCで発表された内容を解説する。

セミナー詳細

開催日時
  • 2023年12月20日(水) 10:30 ~ 17:30
開催場所 オンラインセミナー
カテゴリー オンラインセミナー電気・機械・メカトロ・設備研究開発・商品開発・ ビジネススキル
受講対象者 ・材料メーカー、半導体製造装置メーカー、次世代デバイスの設計・研究開発・生産製造に携わる方(初心者から中級者まで)。新たに半導体パッケージングや3D-ICの研究開発に取り組むことになった方々や新人への研修などを目的としてもかまいません

予備知識 ・特に必要ありません
修得知識 ・先端半導体パッケージを俯瞰した基礎知識
・3D-IC/TSV技術の詳細
・CoWoSとFOWLPの比較、課題の理解、今後取り組むべき研究開発の方向性
・インターポーザとは何か?チップレットとは何か?その構造、特長、用途など
・ハイブリッド接合技術の原理と研究開発動向
プログラム

1.―国際会議ECTCにおける今年と来年の動向―

 

2.先端半導体パッケージの技術動向:

 ・ムーアの法則の次なるけん引役は?

 

3.3D-IC

  (1).3D-ICの概要と歴史

  (2).3D-ICの分類

    a.積層対象による分類

      ・Wafer-to-Wafer vs. Chip-to-Wafer

    b.積層形態による分類

      ・Face-to-Face&Back-to-Face

    c.TSV形成工程による分類

      ・Via-Middle vs.Via-Last

    d.接合方式による分類等

  (3).TSV形成技術

    a.高異方性ドライエッチング

      ・Bosch etch vs. Non-Bosch etch

    b.TSVライナー絶縁膜堆積

    c.バリア/シード層形成

    d.ボトムアップ電解めっき

  (4).チップ/ウエハ薄化技術

  (5).テンポラリー接着技術

  (6).アセンブリ・接合技術

    a.微小はんだバンプ接合技術とアンダーフィル

    b.SiO2-SiO2直接接合

    c.Cu-Cuハイブリッドボンディング

    d.液体の表面張力を用いた自己組織化チップ実装技術

 

4.各社の先端半導体パッケージング技術の開発動向

  (1).Sony社イメージセンサ技術

  (2).新光電気社の2.3Dインターポーザ技術”i-THOP”

  (3).三次元DRAM技術”HBM”

  (4).TSMC社のChip-on-Wafer積層技術”CoWoS”

  (5).Intel社のSi Bridge技術”EMIB”

  (6).Intel社の3D-IC/TSV技術”Foveros”と”QMC”

 

5.チップレットインテグレーションの最前線

  ・AMD社の3D V-Cacheの例を挙げて解説

 

6.FOWLP:パッケージ(電子部品)

  (1).FOWLPの概要と歴史

  (2).FOWLPの分類

    ・Die-first、RDL-first、TSMC社のInFO)と特徴

  (3).FOWLPの課題

  (4).FOWLPの研究開発動向

 

7.多様化する半導体パッケージング

 

8.おわりに

キーワード キーワード 半導体実装工学 高分子材料工学 先端半導体パッケージ 3D-IC チップレット FOWLP パッケージ 電子部品 CoWoS ハイブリッド接合技術 DRAM 三次元積層型メモリ 

タグ 研究開発商品開発プリント基板基板・LSI設計実装電子部品LSI・半導体
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
オンラインセミナー
本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。
こちらのセミナーは受付を終了しました。
次回開催のお知らせや、類似セミナーに関する情報を希望される方は、以下よりお問合せ下さい。
contact us contact us
各種お問い合わせは、お電話でも受け付けております。
03-5322-5888

営業時間 月~金:9:00~17:00 / 定休日:土日・祝日