～ 酸化ガリウムの結晶多形、ミストＣＶＤ法の原理と適用例、結晶多形の制御方法、結晶成長と高品質化、パワーデバイスへの応用 ～
・新しいパワー半導体材料として大きな注目を浴びているミストＣＶＤ法による酸化ガリウムの薄膜作製技術について修得する講座
・ＳｉＣやＧａＮよりも性能が優れ、低損失のパワーデバイスを作製できる酸化ガリウムパワーデバイスの実現技術を先取りし、製品開発へ応用しよう！
・目的のデバイス応用のための結晶多形の制御方法についても解説いたします
オンラインセミナーの詳細はこちら：
https://www.j-techno.co.jp/オンラインセミナーのご案内/
・ＷＥＢ会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください。
近年、新しいパワー半導体材料として大きな注目を浴びている酸化ガリウムの作製技術について詳細に説明します。特に酸化ガリウムの薄膜作製でよく用いされているミストＣＶＤ法の原理やミストＣＶＤ法での酸化ガリウムの作製例を中心に紹介します。
また酸化ガリウムには複数の結晶多形があり、それぞれの作製条件が異なります。目的のデバイス応用に向けてはこれらの目的の結晶多形を作り分ける必要がありますが、その結晶多形を得るための指針などについても紹介します。
本講座の申込み受付は終了いたしました
| 開催日時 |
|
|---|---|
| 開催場所 | オンラインセミナー |
| カテゴリー | オンラインセミナー、電気・機械・メカトロ・設備 |
| 受講対象者 | ・半導体メーカー、自動車部品メーカー、電機メーカー、化学メーカー、半導体装置メーカーなどパワー半導体や半導体製造装置に携わる方 |
| 予備知識 | ・半導体に関する基礎知識があると理解しやすいです |
| 修得知識 |
・酸化ガリウムの基礎物性 ・ミストＣＶＤ法の原理 ・酸化ガリウムの作製方法 |
| プログラム |
１．酸化ガリウムの結晶多形 ２．ミストＣＶＤ法 ３．酸化ガリウムの作製技術 ４．ミストＣＶＤ法による酸化ガリウムの作製技術 ５．まとめと展望 |
| キーワード | 結晶多形 酸化ガリウム ミストＣＶＤ法 エピタキシャル 強誘電体特性 HEMT 混晶化技術 |
| タグ | パワーデバイス、電子部品、LSI・半導体 |
| 受講料 |
一般 (1名)：44,000円(税込)
同時複数申込の場合(1名)：38,500円(税込) |
| 会場 |
オンラインセミナー本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。 |
こちらのセミナーは現在募集を締め切っております。
次回開催のお知らせや、類似セミナーに関する情報を希望される方は、以下よりお問合せ下さい。
営業時間 月~金：9:00～17:00 / 定休日：土日・祝日
