ナノインプリントの基礎と実用化技術およびデバイスへの実装

~ ナノインプリントの基礎、ナノインプリント派生技術のプロセスと特徴、ナノインプリントにおける転写耐久性の評価、平面転写型装置による実用化事例、ロール転写方式による実用化事例~

・ナノインプリントの要素技術から転写耐久評価法、実装の実用化事例までを総合的に学び、高付加価値製品開発に応用するための講座

・ナノインプリントの要素技術から応用事例までを修得し、微細加工技術に効果的に応用しよう!

 

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講師の言葉

 1995年にChou教授がナノインプリントリソグラフィを開発して30年が経過している。今ではリソグラフィだけでなくさまざまな用途にナノインプリント技術が使われている。ナノインプリント技術は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。そのため高付加価値の製品をリーゾナブルな価格で作製することができる。

 本講義では、ナノインプリント技術の基礎から製品化例を紹介し、出口となりうる表面構造やそれに向けての材料やナノインプリントによる作り方を紹介する。また、近年活発化している半導体応用、およびAR/MRグラス等の状況も説明する。

セミナー詳細

開催日時
  • 2026年06月08日(月) 10:00 ~ 17:00
開催場所 オンラインセミナー
カテゴリー オンラインセミナー電気・機械・メカトロ・設備加工・接着接合・材料
受講対象者 ・微細加工技術の係る材料メーカー、装置メーカー、デバイスメーカーの研究、開発担当者
・材料メーカー、光学メーカー、デバイスメーカーの研究、開発担当者
・ナノインプリント関連商材を扱うメーカー、商社の技術営業
予備知識 ・特に予備知識は必要ありません
修得知識 ・ナノインプリントの基礎
・ナノインプリントの応用例
・ナノインプリントを活かした製品応用のヒント
・ナノインプリントプロセスの注意点と対策
・効果的なナノインプリントプロセスの適用方法
プログラム

1.ナノインプリントの基礎

(1)ナノインプリントの歴史

(2)ナノインプリントの要素技術

    a. 金型

    b. 転写樹脂

    c. 離型処理

    d. 転写方式

(3)ナノインプリントの各種方式の構成・プロセスと特徴

    a. ローラーナノインプリント

    b. リバーサルナノインプリント

    c. ソフトリソグラフィ(マイクロコンタクトプリント)

    d. ソフトリソグラフィの応用技術

(4)ナノインプリントの位置づけ

    a. 射出成形との比較

    b. 印刷技術との比較

    c. 特許から見たナノインプリント

    d. 転写の特徴

    e. 類似技術との比較

 

2.ナノインプリント派生技術のプロセスと特徴

(1)ナノトランスファープロセス

(2)金属パターン転写

(3)レプリカモールド

(4)ロールナノインプリント

 

3.ナノインプリントにおける転写耐久性の評価

(1)離型処理方法

(2)離型剤フリーレプリカモールド

(3)転写耐久評価装置

(4)転写耐久結果

 

4.実用化事例~平面転写型装置による~

(1)半導体リソグラフィ

(2)メタレンズ

(3)AR/MR用グラス

 

5.実用化事例~ロール転写方式による~

(1)バイオミメティクスとは

(2)反射防止構造(モスアイ構造)

(3)モスアイ構造の作製方法

(4)モスアイ構造の転写方法

(5)モスアイ構造の応用例

 

6.まとめ

キーワード ナノインプリント 金型 転写樹脂 離型処理 転写方式 ローラーナノインプリント リバーサルナノインプリント ソフトリソグラフィ マイクロコンタクトプリント ナノトランスファープロセス 金属パターン転写 レプリカモールド ロールナノインプリント 半導体リソグラフィ メタレンズ AM/MR用グラス バイオミメティクス 反射防止構造 モスアイ構造 
タグ ナノテクノロジー金型光学LSI・半導体
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
オンラインセミナー
本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。
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営業時間 月~金:9:00~17:00 / 定休日:土日・祝日