～ ドライプロセスによる機能デバイスの製造、真空技術の基礎、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、CVD、ALD、ドライエッチング技術とその応用 ～
・機能性薄膜の形成技術を基礎から学び、高機能デバイス開発へ応用するための講座
・真空蒸着、イオンプレーティング、ＣＶＤ、ＡＬＤ、スパッタリングなどの各種薄膜形成技術の特徴と実践的な活かし方を修得し、高機能なデバイス開発へ活かそう！
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ドライプロセスを駆使した薄膜形成技術と機能デバイス開発へのポイントとその応用 ＜オンラインセミナー＞
講師の言葉
昨今、半導体集積回路素子は基より、発光ダイオード、固体受光素子（CCD、CMOSセンサ）、通信デバイス、フラットパネルディスプレイ、スピントロニクスなどの機能デバイスは真空技術を駆使したドライプロセスによる薄膜形成技術によって製造されている。
今回、この機能性薄膜の形成技術を、具体例を組み込んで実践的に、また実践に必要な真空工学を基礎から解説する。
セミナー詳細
| 開催日時 |
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|---|---|
| 開催場所 | オンラインセミナー |
| カテゴリー | オンラインセミナー、電気・機械・メカトロ・設備、加工・接着接合・材料 |
| 受講対象者 |
・各種機能デバイス関連企業の若手技術者・研究者の方 ・半導体集積回路、発光ダイオード、固体受光素子（ＣＣＤ、ＣＭＯＳセンサ）、通信デバイス、フラットパネルディスプレイ、スピントロニクスなどの開発に携わる技術者の方 ・各種機能デバイス向け研究・製造装置の開発技術者の方 |
| 予備知識 | ・大学卒業レベルの物理と化学の知識 |
| 修得知識 | ・各種機能デバイスの製造に必要なドライ薄膜形成技術の基礎 |
| プログラム |
１．はじめに ２．ドライプロセスの基盤である真空技術の基礎 ３．薄膜形成・加工技術とそのポイント ４．まとめ |
| キーワード | ドライプロセス 機能デバイス 真空技術 粘性流 分子流 真空容器 真空ポンプ 真空計 薄膜形成 真空蒸着技術 イオンプレーティング技術 スパッタリング技術 CVD技術 ALD技術 ドライエッチング技術 |
| タグ | 研究開発、商品開発、薄膜、表面改質、電子部品、LSI・半導体 |
| 受講料 |
一般 (1名)：49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名)：44,000円(税込) |
| 会場 |
オンラインセミナー本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。 |
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