~ 薄膜形成技術の基礎、薄膜の評価(電気的/化学的/物理的)と分析法、ALD/ALE技術の原理と応用 ~
・次世代デバイス作製に必須の技術であるALD/ALE
・半導体デバイスで高機能薄膜を形成するために必須なALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術を修得し、高機能な製品開発に活かそう!
・WEB会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください。
~ 薄膜形成技術の基礎、薄膜の評価(電気的/化学的/物理的)と分析法、ALD/ALE技術の原理と応用 ~
・次世代デバイス作製に必須の技術であるALD/ALE
・半導体デバイスで高機能薄膜を形成するために必須なALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術を修得し、高機能な製品開発に活かそう!
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【講師の言葉】 AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。 薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。 本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術について、その基礎と応用について概説する。 特に、原子層加工の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ(ディスプレイ、センサー)やパワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。 |
本講座の申し込み受付は終了しました
開催日時 |
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開催場所 | オンラインセミナー | |
カテゴリー | オンラインセミナー、加工・接着接合・材料、研究開発・商品開発・ ビジネススキル | |
受講対象者 |
・半導体プロセス・デバイス技術者を目指す初学者の方 ・ALD/ALE技術に興味のある方 |
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予備知識 | ・特に必要としません、基礎からわかりやすく解説します | |
修得知識 |
・半導体プロセス技術全般 ・半導体デバイス技術(特にMOSデバイス) ・半導体材料の評価技術(電気的/化学的/物理的) |
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プログラム |
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キーワード | 薄膜形成技術 ALD(原子層堆積) ALE (原子層エッチング) パワーデバイス MOS、LSI ACFポリマー サーマルALE レイヤーの生成/エッチング | |
タグ | 商品開発、膜、薄膜、表面改質、表面処理・めっき | |
受講料 |
一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込) |
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会場 |
オンラインセミナー本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。 |
こちらのセミナーは現在募集を締め切っております。
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営業時間 月~金:9:00~17:00 / 定休日:土日・祝日