ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と高機能薄膜への応用 <オンラインセミナー>

~ 薄膜形成技術の基礎、薄膜の評価(電気的/化学的/物理的)と分析法、ALD/ALE技術の原理と応用 ~

・次世代デバイス作製に必須の技術であるALD/ALE

・半導体デバイスで高機能薄膜を形成するために必須なALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術を修得し、高機能な製品開発に活かそう!

 

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講師の言葉

【講師の言葉】

 AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。 薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。

 本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術について、その基礎と応用について概説する。 特に、原子層加工の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ(ディスプレイ、センサー)やパワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。

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セミナー詳細

開催日時
  • 2022年06月22日(水) 10:30 ~ 17:30
開催場所 オンラインセミナー
カテゴリー オンラインセミナー加工・接着接合・材料研究開発・商品開発・ ビジネススキル
受講対象者 ・半導体プロセス・デバイス技術者を目指す初学者の方
・ALD/ALE技術に興味のある方
予備知識 ・特に必要としません、基礎からわかりやすく解説します
修得知識 ・半導体プロセス技術全般
・半導体デバイス技術(特にMOSデバイス)
・半導体材料の評価技術(電気的/化学的/物理的)
プログラム

1.薄膜形成技術の基礎

  (1).薄膜作製の基礎

  (2).薄膜の評価方法

    a.電気的評価

    b.化学的分析法

    c.光学的評価法

 

2.ALD技術の基礎

  (1).ALD技術の原理

  (2).ALD薄膜の特長

  (3).ALD技術の歴史

  (4).ALD装置の仕組み

  (5).ALD技術の材料

 

3.ALD技術の応用

  (1).パワーデバイスへの応用

  (2).酸化物薄膜トランジスタへの応用

  (3).MOS LSIへの応用

 

4.ALE技術の基礎

  (1).ALEの歴史

  (2).ALEの原理

 

5.ALE技術の応用事例

(1).シリコン、窒化ガリウム等半導体材料への応用

(2).シリコン酸化膜、窒化膜等絶縁膜への応用

(3).Co等金属膜への応用

 

6.ALD/ALE技術の課題と展望

  

キーワード 薄膜形成技術 ALD(原子層堆積) ALE (原子層エッチング) パワーデバイス MOS、LSI ACFポリマー サーマルALE レイヤーの生成/エッチング
タグ 商品開発薄膜表面改質表面処理・めっき
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
オンラインセミナー
本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。
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