～ 半導体洗浄の４要素、流れの種類と効果、洗浄機内の流れと反応、汚れの状態と様々な薬液、薬液設計、乾燥技術、評価方法、困った時の視点と対策、半導体製造におけるＴＯＣ管理、TOC計の活用、排水管理のポイント ～
・半導体洗浄の基礎から理解し、有機物や汚染物質、付着物などを除去し、洗浄の質を向上させ半導体の技術・性能・品質の向上に活かすための講座
・薬液と汚れの作用、薬液設計の考え方、洗浄装置内の重要な流れの可視化と流れの改善事例を実践的に修得し、洗浄の質を向上した半導体の性能向上に活かそう！
・半導体洗浄工程に用いる超純水の適切な管理が不可欠であり、使用後の排水、回収水として再利用することが求められている高濃度な排水を正しく分析できるＴＯＣ計とＴＯＣ管理の内容も詳解します
・ＷＥＢ会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください。
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（第一部） 半導体洗浄には薬液と装置を用います。薬液がウエハ表面の汚れに届くこと、薬液が汚れと反応すること、が半導体洗浄の条件です。特に、洗浄装置内の流れが重要であることから、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機について流れの可視化観察動画と数値計算結果を中心に用い、洗浄装置内の現象（流れと超音波）を解説します。特に、実際に起こっている現象だけでなく、流れを改良した事例を紹介します。 微細なパターンを洗浄する際には、薬液が溝に入ることが条件ですが、実表面積が想像以上に大きいことも注意点です。最近紹介されている洗浄方法と乾燥方法についても紹介します。薬液については、頻繁に使われる薬液と汚れの作用、薬液設計の考え方など、基本を紹介します。これらを総合し、洗えない時には薬液が届いているか否か、汚れが残る時には取れた汚れが戻っていないか、が対策の視点であることを解説します。
（第二部） 半導体製造における技術革新が進む中、その洗浄工程に用いる超純水が注目されています。半導体の製造工程の中で、洗浄工程は全体の３割以上を占め、大量の水が必要です。特に、ウエハー製造や前工程・後工程で使用される超純水や純水は、わずかな不純物でも製品品質に大きな影響を及ぼす。特に、最先端半導体の製造においては、難分解性有機物を含むＴＯＣの管理が重要となっています。 半導体洗浄工程に用いる超純水は、適切な管理が不可欠です。また、回収水としての再利用や、工場排水の適切な管理が求められています。超純水から排水まで、有機物を正しく分析できるＴＯＣ計について紹介します。 |
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| 開催場所 | オンラインセミナー | |
| カテゴリー | オンラインセミナー、化学・環境・異物対策 | |
| 受講対象者 |
・半導体洗浄に新たに取り組む方 ・半導体洗浄で起こっている現象を知り、生産性を上げたい方 ・半導体洗浄に用いられている方法と薬液の意味を知りたい方 ・何故洗えないのか（洗えるのか）知りたい方 ・半導体製造で超純水や排水の管理をされている方 ・半導体製造に用いる超純水や純水の製造に関わる方 ・半導体製造に用いる機器の洗浄に関わる方 |
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| 予備知識 |
・特に必要ありません |
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| 修得知識 |
・半導体洗浄装置内で実際に起こっている現象 ・洗浄装置の洗浄効果と生産性を上げる際の視点と手段 ・流れが原因となるトラブルが多いこと ・半導体製造に用いる超純水のＴＯＣ管理の必要性 ・ＴＯＣとその測定に関する知識 ・施設からの排水規制に関する知識 |
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| プログラム |
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| キーワード | 半導体洗浄 洗浄工程 排水基準 ＴＯＣ 洗浄装置 超純水 洗浄法 超音波 気泡 薬液設計 枚葉式洗浄機 バッチ式洗浄機 | |
| タグ | 規格・標準、業務改善、生産管理、品質管理、洗浄、未然防止、水処理、LSI・半導体 | |
| 受講料 |
一般 (1名)：49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名)：44,000円(税込) |
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| 会場 |
オンラインセミナー本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。 |
営業時間 月~金：9:00～17:00 / 定休日：土日・祝日
