成膜技術の基礎とトラブル対策および薄膜電子デバイスへの応用 <オンラインセミナー>

~ 成膜技術とその物性、薄膜堆積のトラブル対策、VO2薄膜の応用、薄膜電子デバイスへの応用 ~

・薄膜物性の構造、結晶性、化学組成、電気的特性の評価方法を修得し、高機能な薄膜電子デバイスへの応用に活かすための講座!

・スパッタ成膜法を中心に薄膜の作製と評価法、成膜トラブル対策技術を修得し、薄膜電子デバイスの開発と品質トラブルの対策に活かそう!

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講師の言葉

 本講座では電子製品や機能性材料において多用されている薄膜技術について、製作方法、薄膜の物性と特徴及び電子デバイス応用と動作原理について解説します。

 最初に薄膜の特長と応用例に触れた後に、主な成膜方法としてスパッタ成膜法について詳しく解説します。講師が行ってきたスパッタ成膜の経験を基に、実用面を重視して講義します。特にスパッタ成膜条件と薄膜の膜構造及びストレスの対応に注目します。また、基板バイアス印加法など低温結晶成長技術について述べます。後半は講師が取り組んできた金属-絶縁体相転移を示す二酸化バナジウム(VO2)薄膜の作製方法及び応用について詳細に解説します。最後に産業応用されている薄膜電子デバイスについて解説します。

 講義中、折に触れて薄膜物性の構造、結晶性、化学組成、電気的特性の評価方法についても触れることで、受講される方々が薄膜の特長について理解を深められるように努めます。

セミナー詳細

開催日時
  • 2023年05月15日(月) 10:30 ~ 17:30
開催場所 オンラインセミナー
カテゴリー オンラインセミナー電気・機械・メカトロ・設備加工・接着接合・材料
受講対象者 ・スパッタリング、蒸着等、薄膜コーティング法について基礎から修得したい方
・電子部品、電子材料の開発、生産技術、品質管理に携わる技術者の方
予備知識 ・高卒程度の物理、化学
・電子部品材料の知識があれば理解が早い
修得知識 ・各種電子機器や半導体における薄膜の利用範囲
・薄膜堆積の基礎知識と実践的な薄膜堆積技術
・スパッタ成膜法の工学的見地からの理解
プログラム

1.薄膜の応用分野と成膜技術

  (1).代表的な応用分野

    a.半導体製造における薄膜の応用

    b.機能性材料としての薄膜の応用

    c.最新の薄膜応用のトピックス

  (2).薄膜の成膜技術とその物性

    a.真空蒸着法とスパッタ法

    b.スパッタ成膜法の原理と特徴

    c.スパッタ成膜の膜構造及びストレス

    d.反応性スパッタ法による酸化物薄膜堆積の例(TiO2、AZO、WO3)

  (3).薄膜堆積のトラブル対策

    a.スパッタ成膜のトラブル

     ・アーキング

     ・真空不良

     ・膜堆積速度が小さい

    b.薄膜のトラブル

     ・密着不良

     ・ムラ

     ・機能性が出ない

 

2.薄膜電子デバイスへの応用

  (1).二酸化バナジウム(VO2)薄膜の作製と膜物性評価

    a.VO2薄膜の基礎物性と応用への期待

    b.VO2薄膜の堆積と膜物性評価

  (2).VO2薄膜の応用

    a.自励発振回路

    b.テラヘルツ波偏光板

    c.スマートウィンドウ

  (3).代表的な薄膜電子デバイスへの応用

    a.ショットキーバリアダイオード(Al/p-Si)

    b.青色発光PN接合ダイオード(GaN)

    c.Si半導体メモリー素子

キーワード 半導体製造 機能性材料 真空蒸着法 スパッタ法 アーキング 真空不良 密着不良 VO2薄膜 ショットキーバリアダイオード
タグ 薄膜電子部品
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
オンラインセミナー
本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。
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