技術者のための特許調査と侵害回避のポイントおよび有効な自社特許出願への繋げ方 <オンラインセミナー>

~ 他社特許侵害の基礎、開発段階ごとの他社特許調査方法、他社特許対策と侵害回避策 ~

・講師のエンジニア経験から、技術者自身の成果を「将来有効な権利」にするための必須ポイントを修得する講座!

・講師の実務経験に基づく他社特許調査や他社特許対策を修得し、研究開発を有効な特許出願へ繋げよう!

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・WEB会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください。

講師の言葉

 製造業において、特に研究開発部門に所属する技術者にとっては、「特許出願」はノルマとなっているところが多いのではないでしょうか。また、多くの企業において、技術系新人教育等、「特許」の集合研修がなされているのではないでしょうか。一方で、「実務」としての特許調査・対策、更に特許出願では、特許担当者/特許事務所任せ、あるいはOJTでの業務遂行の域を出ていないことはないでしょうか。結局、せっかくの特許出願が有効な権利に至らない場合があるように感じています。

 本講座は、講師の新製品のプロセスエンジニア及び特許担当者の経験に基づいています。技術者が、「自身が発明者」であることを認識して、特許制度の基本を理解し、適切な特許調査・対策を行った結果、はじめて有効な特許出願に繋がると考えています。

 技術者自身の成果を、将来有効な権利(登録特許)となることを目指して、他社特許の調査と対策のポイント、および自社出願特許の内容強化のためのポイントを説明いたします。

 

 

特許庁ホームページ、2020年度知的財産権制度入門テキスト
『Ⅰ概要編、第2章 産業財産権の概要、第1節 特許制度の概要』を事前に読んでいただけると理解が深まります。

https://www.jpo.go.jp/news/shinchaku/event/seminer/text/document/2020_nyumon/1_2_1.pdf

セミナー詳細

開催日時
  • 2021年12月21日(火) 10:30 ~ 17:30
開催場所 オンラインセミナー
カテゴリー オンラインセミナー研究開発・商品開発・ ビジネススキル
受講対象者 ・大手、中堅メーカーで新製品・新技術開発に関わっている技術者・開発者の方、特許調査・対策、特許出願について、理解を深めたい方
予備知識 ・特許庁ホームページ、2020年度知的財産権制度入門テキスト
『Ⅰ概要編、第2章 産業財産権の概要、第1節 特許制度の概要』を事前に読んでいただけると理解が深まります。講師の言葉の最後に、該当部分のURLがございます
修得知識 ・特許制度の基本
・特許侵害の考え方の基本
・特許調査と対策の基本
・将来有効な特許出願への考え方
プログラム

1.特許の基本/知らなかったでは済まない他社特許侵害

  (1).特許法と特許制度

  (2).出願から権利化までの手続き・流れ

    a.日本出願と外国(PCT)出願

    b.優先権出願

  (3).侵害/非侵害の判断の仕方(対比表とオールエレメントルール)

  (4).技術文献・情報としての特許文献

 

2.他社特許調査

  (1).製品・技術のフェーズで異なる調査の目的と調査範囲

    a.開発初期:技術動向調査

    b.開発段階:<自社の>出願前調査

    c.開発段階:<自社技術・製品が、他社の>権利侵害(侵害予防)調査

    d.開発終期~製品化後:<他社登録特許の>無効資料調査

  (2).特許分類と検索式

  (3).特定特許の出願各国(ファミリ)での審査状況の確認

 

3.他社特許対策

  (1).継続的に発行公報のチェック

  (2).公開段階での対策

    a.対比表の作成・該非判断

    b.回避可否の判断

    c.特許庁への情報提供による無障害化(日本、中国、米国の事例)

  (3).登録後の対策

    a.無効資料調査

    b.実施許諾申し入れのための調査

  (4).日常の対策:公証役場での確定日付取得

    a.新製品生産の計画、工場の設計図面等の文書<先使用権主張>

    b.開発製品そのもの、製造のための文書、検査データ、など

 

4.自社出願特許への反映

  (1).競合・先行他社特許を知って、自社技術を議論

  (2).自社出願~登録特許があっての他社対策(「秘匿」の限界)

  (3).先願主義:(他社より)1日でも早い出願

  (4).優先権出願の効果的活用

  (5).臨界的意義について

  (6).実施可能要件について

キーワード 優先権出願 無効資料調査 権利侵害 特許分類 検索式 実施許諾申し入れ 臨界的意義
タグ 特許・知的財産研究開発
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
オンラインセミナー
本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。
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