真空蒸着、スパッタ、CVDによる成膜技術の基礎と留意点およびトラブル対策 <オンラインセミナー>

~ 成膜技術の基礎、原理と装置、実際の適用例、薄膜評価方法、膜質、装置に関するトラブルと解決 ~

最適な成膜条件の選択法やトラブル解決策を修得し、所望の薄膜作製に活かすための講座

適切な薄膜形成やトラブル解決のために不可欠な基本的かつ系統的な成膜技術を学び、付加価値の高い製品開発へ応用しよう!

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講師の言葉

 薄膜技術は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス、太陽電池、建材、食品産業と、さまざまな産業分野を支える基幹技術です。現在では多機能で高性能な成膜装置が市販されており、かつてと比べて容易に薄膜形成が行えるようになりました。しかしながら、適切な薄膜形成のためには、薄膜技術に関する知識が必要なのは今も昔も変わりません。新規の条件で成膜を行う場合、所望の薄膜を得るためには各種成膜条件が膜質におよぼす影響を考慮しつつ、条件を選択する必要があります。 

 また、成膜プロセスで遭遇する種々のトラブルを解決するためには、その原因を分析し、適切に対処すること求められます。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。

 本講座では、成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

セミナー詳細

開催日時
  • 2021年01月26日(火) 10:30 ~ 17:30
開催場所 オンラインセミナー
カテゴリー オンラインセミナー電気・機械・メカトロ・設備加工・接着接合・材料
受講対象者 ・成膜に関連する研究・開発・製造業務に新規に従事する方
・成膜に関してある程度の実務経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方
・電子部品、電子材料、光学部品、電池、半導体、建材、食品ほか関連企業の技術者の方
予備知識 ・高等学校程度の物理、化学および数学の知識
修得知識 ・成膜プロセス設計に求められる基礎知識
・成膜プロセスにおけるトラブル解決に求められる基礎知識
プログラム

1.成膜技術ための基礎知識

  (1).真空工学

  (2).表面物性工学

  (3).プラズマ工学

 

2.物理気相成長(PVD)法

  (1).真空蒸着法

    a.原理

    b.真空蒸着法の種類

    c.真空蒸着法の留意事項

 

  (2).スパッタ法

    a.原理 

    b.スパッタ法の種類

    c.スパッタ法で作製される薄膜の特長

    d.スパッタ法の留意事項

 

3.化学気相成長(CVD)法

  (1).原理

  (2).化学気相成長法の種類

  (3).化学気相成長法による成膜例

  (4).化学気相成長法の留意事項

 

4.薄膜評価法

  (1).形態観察

  (2).膜組成、膜構造分析

  (3).付着力、膜応力測定

  (4).電気的特性、光学的特性測定

 

5.成膜プロセスで遭遇するさまざまなトラブルと解決策

  (1).膜質に関するトラブルと解決策

  (2).装置に関するトラブルと解決策

キーワード 真空蒸着法 スパッタ法 化学気相成長(CVD)法 膜組成 膜構造分析 付着力 膜応力測定 膜質
タグ 材料熱処理表面改質表面処理・めっき複合素材
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
オンラインセミナー
本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。
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営業時間 月~金:9:00~17:00 / 定休日:土日・祝日