～ 汚染が半導体デバイスに与える影響、各種洗浄液と洗浄メカニズム、新洗浄乾燥技術 ～
・デバイスの品質向上に不可欠な洗浄技術を基礎から修得し、歩留を向上させるための講座
・最近の洗浄技術や汚染制御技術、さらに新しい乾燥技術を修得し、高品質なデバイス開発へ活かそう！
半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と歩留改善のための効果的な汚染制御技術
講師の言葉
半導体デバイス製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。
序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。
次に洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要不可欠です。洗浄の意義を学び、品質を向上させましょう。
本講座は、会場が変更になりました。
セミナー詳細
| 開催日時 |
|
|---|---|
| 開催場所 | ちよだプラットフォームスクウェア 地下1階 ミーティングR002 |
| カテゴリー | 化学・環境・異物対策 |
| 受講対象者 |
・半導体デバイスの研究開発および製造業務にたずさわっている技術者の方 ・電子部品・光学部品・精密部品・化学・材料・医療デバイスその他関連企業の方 ・洗浄剤、洗浄装置および部品など、産業洗浄技術に関わる方 |
| 予備知識 | ・特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします |
| 修得知識 |
・最新の洗浄、洗浄液、乾燥技術を習得できる ・半導体デバイス製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる |
| プログラム |
１．序論 － 汚染が半導体デバイスに与える影響 ２．洗浄技術 ３．その他の汚染制御技術 ４．次世代の汚染制御と新洗浄乾燥技術 |
| キーワード | 洗浄 金属汚染 ナノパーティクル 分子汚染 モニタリング技術 RCA洗浄 洗浄液 汚染制御技術 洗浄乾燥 |
| タグ | 乾燥、洗浄、LSI・半導体 |
| 受講料 |
一般 (1名)：49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名)：44,000円(税込) |
| 会場 |
ちよだプラットフォームスクウェア 地下1階 ミーティングR002東京都千代田区神田錦町3‐21電話番号 : 03-3233-1511 |
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