技術者・研究者のための特許マップ作成法と効率的な特許検索・分析手法と実践 ~デモ付~

~ 特許文献の効率的な探し方、他社に先駆けた技術潮流、新たな課題の発見、自社製品に使える要素技術のブレイクスルーの予見と製品開発への活かし方 ~

・ 特許情報から得られる知見をタイムリーで実務に有効な製品開発に活かすための講座

・「短時間で確実に見つけられる特許検索手法」や「技術潮流の抽出と発明に役立つ特許マップ作成方法」を実践的に修得し、他社に先駆けた製品開発に応用しよう!

講師の言葉

 技術者・研究者の頭脳は他人の発明に接することによって刺激され、アイデアがヒラメキ、発明が生まれます。特許文献データベースには、出願された発明が極めて検索しやすく整理され収録されています。技術者・研究者の方々には、これを活用して日常的に特許情報に接することによって、技術潮流を感じ取り、その一歩先を行くような大発明を成し遂げていただきたいのです。
 本講座では、検索手法と特許マップの作り方をご紹介します。検索手法では、ヒラメイた発明に関連する特許文献を、短時間で確実に見つけることを目指します。特許マップはIPランドスケープにも不可欠なツールで、技術者・研究者が自ら作成することで技術潮流を感じとることができます。Excelのピボットやマクロを使って特許マップを作る方法を紹介します。ピボットやマクロを使ってみたいけれども勉強する時間がないという方にもお勧めです。簡単な使い方を覚えるだけで特許マップが描けます。自分なりの工夫を加える試行錯誤を通して、いろいろな分析からいろいろな発見があります。
 技術者・研究者の方々には、本講座で学んだ検索手法、分析手法を活用・発展させて、日常的に特許情報に接することによって、素晴らしい発明を創生して、技術潮流の一歩先をゆく製品開発に役立てていただきたいと思います。

セミナー詳細

開催日時
  • 2019年07月03日(水) 10:30 ~ 17:30
開催場所 日本テクノセンター研修室
カテゴリー 研究開発・商品開発・ ビジネススキル
受講対象者 ・発明(特許)を仕事の守備範囲とされている技術者・研究者の方
・知財部門で特許戦略を検討される方
・調査部門で実際に調査・分析を担当される方
予備知識 ・特に必要ありません
修得知識 ・特許検索や特許情報分析のノウハウ
・Excelのピボットやマクロの簡単な使い方
 (特許マップを題材にしますので、勉強のための勉強に留まりません)
プログラム

1.技術潮流を抽出するソース及び発明の起爆剤としての特許文献データベース
  (1). 特許情報からわかる技術潮流の精度と価値
  (2). 自己満足の発明と他社(他者)特許から刺激されて生まれた発明
  (3). 特許検索を日常に取り込むことによる特許情報の活用

2.費やした時間・労力に見合った特許文献がみつかる検索手法
  (1). なぜ「特許検索は難しい」と感じるのか?
  (2). 漏れとノイズのトレードオフ
  (3). 特許分類活用の勧め ~国際特許分類と日本の特許分類(FIとFターム)~
  (4). 調査対象技術の明確化
  (5). 適切な特許分類を特定する予備検索
  (6). 中身の濃いヒット集合から段階的に探索範囲を拡大
  (7). 特許検索を日常に取り込むことによる、技術潮流の一歩先を行く発明

3.検索事例の紹介
  (1). 調査対象技術の明確化 ~分野×必須の構成×特徴の3項で表現~
  (2). J-Plat Patの使い方(必要最小限)
  (3). 特許文献の効率的な読み方 ~ハズレを素早く切り捨てることによる作業時間の短縮~
  (4). ヒット0件になったとき/ヒット件数が膨大になったときの対処法

4.特許マップの作成法
  (1). なぜ自分で作ると良いのか?
  (2). なぜExcelが良いのか?
  (3). 特許分類の活用による、ノイズが少なく且つ漏れも少ない理想的は文献集合の形成
  (4). Excelのピボットテーブルによる、出願人別出願件数の年次推移のグラフ
  (5). Excelのマクロによる、課題×解決手段の分析マトリックス
  (6). 試行錯誤を通して、他社に先駆けた技術潮流、新たな課題の発見

5.製品開発への活かし方
  (1).IPランドスケープ
  (2).ライバルとの比較 ~自社のコアコンピタンス~
  (3).顧客の指向する方向の予想
  (4).自社製品に使える要素技術のブレイクスルーの予見
  (5).己を知り、上流~下流の技術潮流を知ることによる、技術潮流の一歩先を行く製品開発

キーワード 特許検索 特許マップ 特許分類 IPランドスケープ 技術潮流 コアコンピタンス ブレイクスルー
タグ イノベーションマーケティング特許・知的財産技術経営研究開発商品開発新事業
受講料 一般 (1名):48,600円(税込)
同時複数申込の場合(1名):43,200円(税込)
会場
日本テクノセンター研修室
〒 163-0722 東京都新宿区西新宿2-7-1 小田急第一生命ビル(22階)
- JR「新宿駅」西口から徒歩10分
- 東京メトロ丸ノ内線「西新宿駅」から徒歩8分
- 都営大江戸線「都庁前駅」から徒歩5分
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666
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