〜 プラズマと気体放電の基礎、制御パラメータと内部パラメータ、薄膜推積プロセス 〜
・複雑なプラズマプロセスのイメージをとらえ、高品質な成膜技術に活かすための講座
・プラズマプロセスにおけるパラメータ操作のポイントを学び、問題解決や製品開発へ応用しよう！
プラズマ成膜技術の基礎と高機能化への応用
講師の言葉
プラズマプロセスは、電気回路学・電磁気学・流体力学・化学反応工学・統計力学が複雑に絡み合ってなされるプロセスです。現場での問題解決や新規提案の考案のために一番よいのは、これらの学問領域を制覇することですが、時間との勝負である現場の開発においては、そのようなアプローチは非現実的です。
本講座ではプロセス結果に直結するプラズマ中の物理的・化学的現象をピックアップし、そのイメージをつかむことで、問題解決や新規提案実現のためにプロセスパラメータの何を操作すればよいかを習得して頂こうと思っています．
セミナー詳細
| 開催日時 |
|
|---|---|
| 開催場所 | 日本テクノセンター研修室 |
| カテゴリー | 品質・生産管理・ コスト・安全 |
| 受講対象者 | ・現場でプラズマ成膜プロセスの担当となられている方 ・プラズマ装置を作ろうと考えている方 ・プラズマについて基礎的なことを学びたい方 |
| 予備知識 | ・大学１年生程度の物理と化学の基礎 |
| 修得知識 | ・プラズマ中の電子・イオン・ラジカルの挙動の物理的イメージ ・その制御方法と成膜プロセスへの影響 |
| プログラム |
１．なぜプラズマを使うのか？
（１）．ドライ vs. ウェット
（２）． PVD vs. CVD
（３）．プラズマ vs. 熱・光
２．プラズマと気体放電の基礎
（１）．プラズマの温度
（２）．壁との境界「シース」
（３）．放電によるプラズマ生成の基礎
３．各種プラズマ生成方式
（１）．直流放電プラズマ
（２）．高周波放電プラズマ
（３）．プラズマの高密度化の必要性とその実現方法
４．プラズマ化学工学
（１）．制御パラメータと内部パラメータ
（２）．プラズマ中の電子のエネルギー分布
（３）．電子衝突による一次反応
（４）．二次反応とその影響
（５）．気相から表面までの輸送過程
（６）．表面での反応過程
５．膜堆積過程の理解と応用技術
（１）．膜構造形成過程の基本的描像
（２）．膜構造と膜の電子物性の関係
（３）． PVD vs. CVD
（４）．スパッタ成膜とその特徴
（５）．プラズマCVDとその特徴
（６）．a-Si:H成膜過程と膜構造・電子物性との関係
（７）．イオン衝撃の効能
・応力制御や段差埋め込み特性向上
（８）．機能基含有の効能
ａ．耐熱性向上
b．機械的強度向上
c．低誘電率化
６．まとめと質疑応答
|
| キーワード | プラズマ 気体放電 高密度プラズマ源 制御パラメータ 薄膜堆積プロセス 膜構造 |
| タグ | 表面改質、表面処理・めっき、溶射 |
| 受講料 |
一般 (1名)：49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名)：44,000円(税込) |
| 会場 |
日本テクノセンター研修室〒 163-0722 東京都新宿区西新宿２－７－１ 新宿第一生命ビルディング（２２階）- JR「新宿駅」西口から徒歩10分 - 東京メトロ丸ノ内線「西新宿駅」から徒歩8分 - 都営大江戸線「都庁前駅」から徒歩5分 電話番号 : 03-5322-5888 FAX : 03-5322-5666 |
こちらのセミナーは受付を終了しました。
次回開催のお知らせや、類似セミナーに関する情報を希望される方は、以下よりお問合せ下さい。
各種お問い合わせは、お電話でも受け付けております。
03-5322-5888
営業時間 月~金：9:00～17:00 / 定休日：土日・祝日