• 2017年12月08日(金) 10:30 ～ 17:30

１. プラズマを利用している分野

　　（１）. プラズマを用いてできること
　　（２）. プラズマプロセシングについて

２. プラズマの基礎的性質
　　（１）. プラズマとは、電子密度、電子温度
　　（２）. プラズマ技術の用語と単位

３. 電離と解離
　　（１）. 電離度と解離度について
　　（２）. 電離、解離と電子エネルギー分布

４. 無磁場のプラズマと磁化プラズマ
　　（１）. プラズマは反磁性
　　（２）. プラズマ周波数、衝突周波数、サイクロトロン周波数について

５. 容量結合プラズマ（CCP）
　　（１）. CCP装置の例
　　（２）. CCP装置の等価回路

６. 誘導結合プラズマ（ICP）
　　（１）. ICP装置の例
　　（２）. ICP装置の等価回路

７. 磁気中性線放電（NLD）プラズマ
　　（１）. NLDプラズマ装置の例
　　（２）. NLDプラズマ装置の等価回路

８. マイクロ波プラズマ

９．電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマ
　　（１）. ECRプラズマ装置の例
　　（２）. プラズマ中の波動、CMA図

１０. シース
　　（１）. プラズマ、固体表面とシース
　　（２）. RFバイアス印加とイオンエネルギーの制御

１１. プラズマ計測診断技術
　　（１）. ラングミュアプローブ、静電プローブ
　　（２）. プラズマ装置に発生する高電圧 (Vpp、Vdc) の計測
　　　　 ウエハ表面（基板表面）における Vpp、Vdc について

１２. プラズマの応用例：ドライエッチング
　　（１）. 反応性イオンエッチング（RIE）
　　（２）. エッチング速度、イオンフラックス、イオンエネルギー
　　（３）. スパッタエッチング（物理的エッチング）の場合のエッチング速度の計算例