産業用フッ化物ガスの基本特性と応用および安全性対策

〜 三フッ化窒素の特性と安全性対策、新規用途への活用と開発動向 〜

三フッ化窒素を中心に、安全性・化学反応・製造方法・新規の用途について徹底解説する講座

・三フッ化窒素を安全に取り扱い、新規の用途へ有効な活用を行うための知識が学べる特別講座!

講師の言葉

 三フッ化窒素 (NF3) は、1928年にRuffが溶融酸性フッ化アンモニウム (NH4F-HF) を黒鉛陽極で電解して合成した最初の窒素のフッ化物で、常温では無色の安定な気体であるが、高温では酸化力が強く、安定で取り扱いやすいフッ素化剤として利用できる化合物である。
 本講演では、フッ化物ガス(フッ化水素、フッ素、三フッ化窒素、フロン類、六フッ化硫黄)の基本特性、特に、三フッ化窒素の物理化学的性質(諸物性)を詳細に述べる。また、フッ化物ガスの取り扱いにはその安全性が必要であるので、三フッ化窒素を中心とするフッ化物ガスの安全性について述べるとともに、続発したフッ化物ガス事故の原因と今後の対策についても触れたい。
 さらに、三フッ化窒素の製造方法や三フッ化窒素の化学反応について紹介し、最後に、三フッ化窒素の用途として、既に実用化されている半導体エッチングガスやCVDチャンバーのクリーニングガスについて説明する。ついで、最近実用化したSiCのプラズマエッチングと表面平滑化、今後、開発される可能性のある傾斜有機フッ化物膜、リチウムイオン二次電池負極用炭素薄膜の作製について解説を行なう。

セミナー詳細

開催日時
  • 2016年11月08日(火) 10:30 ~ 17:30
開催場所
カテゴリー 化学・環境・異物対策品質・生産管理・ コスト・安全
受講対象者 ・フッ化物ガス製造関連の研究者・技術者 ・半導体、太陽電池、液晶ディスプレイ関連の研究者・技術者 ・リチウム二次電池関連の研究者・技術者 ・フッ化物ガスによる無機・有機材料の表面処理・改質を行なっている研究者、技術者など
予備知識 ・化学の知識
修得知識 ・フッ化物ガス(三フッ化窒素などのフッ化物ガスの基礎知識と安全性) ・半導体関連ガスの特性と比較 ・プラズマ重合による傾斜フッ化物薄膜の作製およびsp2系炭素被膜の作製とリチウム電池への応用 ・パワーデバイス用半導体となる炭化ケイ素(SiC)のプラズマエッチングおよび表面平滑化
プログラム

1. フッ素の特徴と生産能力
  (1). フッ素の特徴−水素およびハロゲン元素の物性値
  (2). フッ素化学と三フッ化窒素(NF3)の歴史
  (3). 三フッ化窒素(NF3)の生産能力と世界および国内の需要

2. フッ化物ガス(フッ化水素(HF)、フッ素(F2)、三フッ化窒素(NF3)、六フッ化硫黄(SF6)など)
  (1). 物理化学的性質
      a. フッ化水素(HF)、フッ素(F2)、三フッ化窒素(NF3)の物性の比較
      b. 三フッ化窒素(NF3)の諸物性
  (2). 水への溶解度(四フッ化炭素(CF4)、六フッ化硫黄(SF6)、三フッ化窒素(NF3))

3. フッ素および三フッ化窒素(NF3)の安全性
  (1). 識閾値および安全性
      a. フッ化物ガスの識閾値
      b. 三フッ化窒素(NF3)ガスの安全性
      c. フッ素(F2)ガスの識閾値
  (2). 三フッ化窒素(NF3)の毒性

4. 三フッ化窒素(NF3)の化学反応
  (1). 無機化合物との反応
  (2). 有機化合物との反応
  (3). 加水分解反応

5. 三フッ化窒素(NF3)の製造方法
  (1). Air Products 法
  (2). セントラル硝子法
  (3). 溶融塩電解法(三井化学法)
  (4). 田坂・渡邊法(BDD電極も含む)

6. 三フッ化窒素(NF3)の用途
  (1). 三フッ化窒素(NF3)の用途の現状
      a. 半導体用ガスへの応用−他のフッ化物ガスとの比較
      b. クリーニングガスへの応用
  (2). 新規の三フッ化窒素(NF3)の用途への展開
      a. 実用化が急がれる応用:高パワー素子(炭化ケイ素(SiC))開発
       −三フッ化窒素(NF3)によるプラズマエッチングと表面平滑化
      b. 今後、開発される可能性のある応用技術
         ・傾斜有機フッ化物膜の作製
         ・リチウムイオン二次電池負極用炭素薄膜の作製

キーワード フッ素 三フッ化窒素 NF3 四フッ化炭素 六フッ化硫黄 Air Products 法 セントラル硝子法 溶融塩電解法 田坂・渡邊法 BDD電極
タグ 安全化学化学工学
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
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