〜 結晶成長技術と研磨・CMPの基礎から難加工基板の反り制御技術、超精密研磨のメカニズム分析、新しい研磨加工技術動向 〜
・サファイアやGaNなど近年脚光を浴びている材料基板の加工技術について専門家の方々が最新技術を解説する講座
・結晶品質を満足させる結晶成長技術や効率的な難加工技術を先取りし、高品質な製品開発へ応用しよう！
難加工基板（サファイア・ＧａＮ等）の結晶成長・加工・最終仕上げ研磨技術とその応用
講師の言葉
サファイアをはじめとする難加工基板は窒化物LEDを作製するための下地基板として近年脚光を浴びています。
本セミナーでは、このような難加工基板製造を理解するための基礎となる結晶成長技術、基板加工技術について解説します。
またサファイアや窒化ガリウムの基板加工技術について、基礎から応用までを解説します。
講師らによる最新の分析結果についても講義し、参加者各位の理解を深めます。
セミナー詳細
| 開催日時 |
|
|---|---|
| 開催場所 | 日本テクノセンター研修室 |
| カテゴリー | 加工・接着接合・材料 |
| 受講対象者 | ・結晶成長や基板加工の初学者の方 ・経験者であるが難加工基板の経験が浅い方 （電子材料、電子部品、半導体、光学部品、LED等関連企業の方） ・研磨加工技術に従事される技術者の方 |
| 予備知識 | ・特に必要ありません |
| 修得知識 | ・結晶成長から難基板加工の一般的・基礎的な流れを理解し、サファイア基板やGaN基板などに特化した事例の紹介を踏まえることで、材料特有の加工難易度・現状や課題を修得する |
| プログラム |
１．単結晶成長技術と基板加工技術の基礎 ２．難加工基板の研磨加工 ３．基板加工技術の応用 |
| キーワード | 難加工基板 サファイア GaN 結晶成長 研磨・CMP 超精密ポリシング プレストン則 モニタリング 研磨ダメージ解析 |
| タグ | 研磨、パワーデバイス、精密加工・組み立て、光学、電子部品、LED・有機EL・照明、LSI・半導体 |
| 受講料 |
一般 (1名)：49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名)：44,000円(税込) |
| 会場 |
日本テクノセンター研修室〒 163-0722 東京都新宿区西新宿２－７－１ 新宿第一生命ビルディング（２２階）- JR「新宿駅」西口から徒歩10分 - 東京メトロ丸ノ内線「西新宿駅」から徒歩8分 - 都営大江戸線「都庁前駅」から徒歩5分 電話番号 : 03-5322-5888 FAX : 03-5322-5666 |
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