• 2021年08月30日(月) 10:30 ~ 17:30

１．真空技術の基礎と産業応用

　　（１）．真空とは

　　　　ａ．JISの定義について

　　　　ｂ．真空技術に関連する用語と単位、およびSI単位について

　　（２）．真空を利用してできること、真空の性質

　　（３）．真空を利用している分野

　　（４）．圧力（真空度）と粒子密度の関係

　　（５）．真空装置の構成

　　　　ａ．低真空領域の装置

　　　　ｂ．高真空領域の装置

　　　　ｃ．大気圧が押す力、相当に強い

　　　　ｄ．分野別真空装置の比較

　　　　　　・真空装置の圧力領域、業界別

　　　　　　・真空装置の大きさ、業界別

　　（６）．真空装置のコンポーネント

　　　　ａ．真空ポンプの種類と用途

　　　　ｂ．真空計の種類と用途

　　（７）．平均自由行程

　　　　ａ．平均自由行程と圧力の関係

　　　　ｂ．平均自由行程と粒子密度の関係

　　　　ｃ．クヌーセン数について

　　（８）．真空装置の圧力、流量、有効排気速度

　　　　ａ．有効排気速度

　　　　ｂ．コンダクタンス

　　　　ｃ．問題：コンダクタンス、有効排気速度、圧力を計算してみましょう

　　（９）．残留ガスの分析

　　（１０）．質量分析

　　　　ａ．磁場偏向形、扇形（セクタ形）電磁石を用いる方式

　　　　ｂ．四重極質量分析計

　　　　ｃ．タイムオブフライト形（飛行時間形）

　　（１１）．真空と表面、プロセスを意識して

　　　　ａ．入射頻度（フラックス）の重要性

　　　　ｂ．固体表面に存在する原子の数

　　　　ｃ．ラングミュアという単位

　　　　ｄ．付着確立について、気体分子と固体表面の関係

　　（１２）．流量が重要になるプロセス

　　　　ａ．流量の単位について

　　　　ｂ．流量の違いによる性能の差異

　　（１３）．高真空装置の設計・製造上の留意点

２．プラズマ技術の基礎と産業応用

　　（１）．プラズマを利用している産業分野

　　（２）．プラズマの基礎的性質

　　　　ａ．プラズマとは、電子密度、電子温度

　　　　ｂ．プラズマ技術に関連する用語と単位、SI単位について

　　（３）．プラズマプロセシング

　　　　ａ．プラズマプロセシングについて

　　　　ｂ．プラズマを用いてできること：成膜、エッチング、改質

　　（４）．産業界で利用されるプラズマ装置の種類と用途

　　（５）．無磁場のプラズマと磁化プラズマ

　　　　ａ．サイクロトロン運動 （ラーモア運動）

　　　　ｂ．プラズマは反磁性

　　　　ｃ．プラズマ周波数、衝突周波数、サイクロトロン周波数について

　　（６）．電離と解離

　　　　ａ．電離度と解離度について

　　　　ｂ．電離、解離と電子エネルギー分布の関係

　　（７）．容量結合プラズマ（CCP）

　　　　ａ．CCP装置の構造

　　　　ｂ．CCP装置の等価回路

　　（８）．誘導結合プラズマ（ICP）

　　　　ａ．ICP装置の構造

　　　　ｂ．ICP装置の等価回路

　　（９）．磁化プラズマの例：磁気中性線放電（NLD）プラズマ

　　　　ａ．NLDプラズマ装置の構造

　　　　ｂ．NLDプラズマ装置の等価回路

　　（１０）．マイクロ波プラズマ

　　（１１）．プラズマ中の波動、CMA図

　　（１２）．電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマ

　　　　ａ．ECRプラズマ装置の構造

　　　　ｂ．CMA図の中のECR

　　（１３）．プラズマ生成とプロセスの面内均一性

　　（１４）．プラズマ計測診断技術

　　　　ａ．プラズマ計測法の種類と用途

　　　　ｂ．ラングミュアプローブ、静電プローブ

　　　　ｃ．ラングミュアプローブによる電子密度、電子温度の測定例

　　　　ｄ．平板プローブを用いた高周波電圧およびイオンフラックスの測定例

　　（１５）．シース

　　　　・プラズマと固体表面の間にできるシースについて

　　（１６）．プラズマの応用例：ドライエッチング

　　　　ａ．ドライエッチング、反応性イオンエッチング（RIE）について

　　　　ｂ．エッチング速度とイオンエネルギーの関係

　　　　ｃ．問題：スパッタエッチング（物理的エッチング）の場合のエッチング速度の計算

　　（１７）．まとめと質疑応答

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