真空および真空成膜技術の基礎と機能性薄膜への応用 <オンラインセミナー>

~ 真空技術の基礎、真空中で起こる物理現象、真空の作り方のポイント、真空成膜の基礎とポイント、機能性薄膜への応用 ~

・初学者の方にも真空技術の基本からわかるように解説し、実務での応用ができる特別セミナー!

・機能性薄膜の作り方のポイントを修得し、機能性薄膜を高機能な製品開発に応用しよう!

ンラインセミナーの詳細はこちら:

・WEB会議システムの使い方がご不明の方は弊社でご説明いたしますのでお気軽にご相談ください。

講師の言葉

 スパッタなど真空成膜は、Si半導体LSIやMEMS、ディスプレイなど電子デバイス製造などで広く使われる汎用技術です。よいプロセスが確立できると、歩留まり100%も不思議ではない極めて素性の良いプロセスです。それは、働いているのが、原子、分子、イオン、電子そのものなので、誰がやっても、どこでやっても、全く同じことができるはずのものだからです。

 現在の工学系、理系の大学の講義で、真空技術を取り上げているところは極少数です。したがって真空技術は社会に出てから現場で学ばなければならないものになります。現場では、装置を如何動かすのかとか、測定を如何やるのかはなんとかできるようになっても、その意味するところは何か分からなく、何か問題がおきても如何考えていいのかわからない場合が多いのでないでしょうか?本講義の前半部分は予備知識が無くても真空技術がその基本からわかるように工夫しました。

 またスパッタについての説明を、無味乾燥な教科書的な説明ではなく、先人たちが現場の苦闘の中から見出した知見を訪ねるという形でお話ししてみようと考えています。今日のスパッタ技術がどのようにして作られてきたものなのかを知ることは、現在の課題に取り組んでいる皆様の必ず役に立つものと思います。

セミナー詳細

開催日時
  • 2020年11月10日(火) 10:30 ~ 17:30
開催場所 オンラインセミナー
カテゴリー オンラインセミナー加工・接着接合・材料
受講対象者 ・スパッタリングなどの真空成膜による薄膜形成に直接あるいは間接的に関わっている方
・真空装置や真空部品、真空材料を扱っている方
・薄膜を用いたデバイスや加工品などを扱っている方
・真空技術、薄膜技術に関心のある方
・電子デバイス、LSI、ディスプレイ、ハードディスク、素材、分析など関連企業の方
予備知識 ・特に必要ありません
修得知識 ・真空技術では、真空とはどういうことかということから、真空ポンプや真空計の使い方、高真空の作り方、水の排気、ガス配管のパージ方法などの基礎技術
・真空薄膜がなぜいろいろな特性を持つようになるのか、機能性薄膜の作り方のポイントについて理解を深めることができます
・スパッタ法が現場のどのような問題を解決する中で進歩してきたのかについて
・真空・真空成膜について科学的・系統的に理解できる
プログラム

1.真空とは
  (1).真空のはたらき
    a.真空とは
    b.真空にはどんな働きがあるか
  (2).真空技術の基礎
    a.希薄気体
    b.気体分子の動き
    c.平均自由行程
    d.入射頻度
  (3).気体の通り抜けやすさ(コンダクタンス)
    a.真空技術で一番重要なポイント 粘性流と分子流
    b.コンダクタンスがわかると真空がわかる

2.真空中で起こる物理現象
  (1).蒸発
    a.蒸発のミクロなイメージ
  (2).熱の伝わり方
    a.真空中の熱の伝わり方は常識はずれ
  (3).吸着と脱離
    a.表面と気体分子
    b.平均滞在時間
    c.吸着平衡

3.真空の作り方のポイント
  (1).ポンプや真空計で間違いやすいこと
    a.ポンプと真空室の接続
    b.クライオポンプでの水素の排気と水の排気
    c.ターボ分子ポンプの到達は何で決るか?
    d.どうして色々な真空計が必要なのか、どう選べば良いのか?
  (2).排気曲線
    a.100リットルの真空室を1000リットル/秒の排気速度のポンプで排気するとどうなるのか?
    b.どこまで排気できるかは如何決まるのか?
  (3).水の排気はちょっと特別
    a.吸着性のガスの真空中の振る舞い
    b.ガス配管の吸着水の排気

4.真空成膜の基礎とポイント
  (1).薄膜の形成
    a.いろいろな真空成膜法
    b.膜構造と成膜種のエネルギー
    c.高エネルギー粒子による表面変化
  (2).真空蒸着の基礎
    a.真空蒸着にはどのくらいの圧力が必要なのか?
    b.蒸着速度は計算できるか?
    c.広い面積に均一に成膜するのはどうすれば良いのか?
  (3).スパッタプロセスの実例 :機能性薄膜への応用
    a.半導体プロセスへのAlスパッタ法の導入
    b.超薄膜の形成例 ハードディスクのヘッド・媒体成膜
    c.低圧力遠隔スパッタ法とイオン化スパッタ法
    d.透明導電膜ITOの成膜
    e.RAS法またはメタモード法装置によるアモルファス酸化膜成膜
    f.酸化物半導体膜IGZOの成膜

5.まとめ

キーワード 真空 コンダクタンス ポンプ 真空計 排気曲線 真空蒸着 蒸着速度 スパッタリング イオン照射表面 スパッタプロセス スパッタ装
タグ 真空バルプ・ポンプ薄膜電子部品
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
オンラインセミナー
本セミナーは、Web会議システムを使用したオンラインセミナーとして開催します。
contact us contact us
各種お問い合わせは、お電話でも受け付けております。
03-5322-5888

営業時間 月~金:9:00~17:00 / 定休日:土日・祝日