真空成膜技術の基礎とトラブル対策および密着性・耐久性改善のポイント

~ 真空成膜に関する基礎知識、薄膜製造プロセスのトラブルの具体的事例と対策、薄膜形成のコスト低減・生産性向上 ~

・真空成膜の原理と高品質化の基本を理解して、高い特性や性能を実現しつつ不具合を防止するための講座

・各種真空成膜技術の原理から薄膜の高品質化と不具合対策、生産性向上のノウハウについて実務に役立つよう修得できる特別セミナー!

講師の言葉

 真空技術および真空成膜技術は、半導体などの電子デバイスや機械部品の表面機能化のために広く活用されている大変重要な技術です。医療機器や家電、自動車、航空・宇宙など、今後注目される分野においてもますますその活用が見込まれます。
 近年の真空成膜技術は、装置や材料の進歩が目覚ましく、高品質化を実現しています。しかし薄膜に対する技術的要求もさらに高くなっています。新しい用途や薄膜構成を開発し量産化しようとすると、品質トラブルが発生しやすくなります。高いポテンシャルを持つ真空成膜技術を真に使いこなすには、真空成膜の原理と高品質化の基本を理解して、高い特性や性能を実現しつつ不具合を防止していく必要があります。
 本講座では、真空技術の基本と、各種真空成膜技術の原理を解説し、薄膜の高品質化と不具合対策、生産性向上のノウハウについて紹介します。真空成膜技術を高品質化するために、この講座をぜひ活用してください。

本講座の申込み受付は終了しました

セミナー詳細

開催日時
  • 2019年04月04日(木) 10:30 ~ 17:30
開催場所 日本テクノセンター研修室
カテゴリー 加工・接着接合・材料
受講対象者 ・真空成膜技術に関する技術開発に携わる技術者の方
・現在薄膜製品を作っている現場の技術者の方
・薄膜開発の技術者、管理者の方
(電子部品、光学部品、センサー、回路、ELディスプレイ、表示デバイス、磁気記録、圧電材料、太陽電池、工具、医療機器など)
予備知識 ・特に必要ありません
修得知識 ・真空技術、真空成膜技術の基本と成膜の原理を理解できる
・薄膜の高品質化の方法を知ることができる
プログラム

1.真空成膜に関する基礎知識
  (1).薄膜とは何か ~定義、性質、機能~
  (2).薄膜の成長過程と真空技術の基本
  (3).真空蒸着法の原理
  (4).スパッタリング法の原理
  (5).化学的気相成長(CVD)法の原理
  (6).薄膜の設計と評価

2.薄膜製造プロセスのトラブルの具体的事例と対策
  (1).薄膜の品質と物理化学的現象の関係
  (2).膜質を分析する ~組織観察、成分分析、結晶解析~
  (3).膜厚バラツキの原因と対策
  (4).特性不安定化の原因と対策
  (5).外観不良の原因と対策
  (6).微小欠陥の原因と対策

3.薄膜の密着性・耐久性改善のポイント
  (1).密着性・信頼性の評価技術
  (2).薄膜の密着と剥離のメカニズム
  (3).剥離モード解析からの原因追究
  (4).界面の密着強度の向上
  (5).膜厚と応力の最適化

4.薄膜形成のコスト低減・生産性向上について
  (1).薄膜工程の原価の考え方
  (2).材料コスト低減の方法
  (3).成膜装置の稼働率とメンテナンス
  (4).生産能力アップの方法
  (5).薄膜技術の生産性向上に関する最新動向

キーワード 真空成膜 真空蒸着法 スパッタリング法 化学的気相成長(CVD)法 膜質 膜厚バラツキ 微小欠陥 剥離モード解析 膜厚
タグ 真空薄膜電子部品
受講料 一般 (1名):49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名):44,000円(税込)
会場
日本テクノセンター研修室
〒 163-0722 東京都新宿区西新宿2-7-1 小田急第一生命ビル(22階)
- JR「新宿駅」西口から徒歩10分
- 東京メトロ丸ノ内線「西新宿駅」から徒歩8分
- 都営大江戸線「都庁前駅」から徒歩5分
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666
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