スパッタリング・蒸着プロセスの基礎と製品開発への応用

~ イオンプレーティング、マグネトロン、カソード、高速成膜技術における最新スパッタリング技術、透明導電膜、バリア膜ほか応用製品 ~

・表面処理技術やコーティングに不可欠で重要な真空成膜技術を修得するための講座

・エキスパートの方が、真空蒸着やスパッタリングの最新技術とトラブル対策について詳しく解説する特別セミナー! 

講師の言葉

 真空薄膜プロセスは、ガラス、プラスチック、セラミック、金属基板などどのような基材にも成膜出でき、環境負荷も少なく、今後の表面処理、コーティングには欠かせない重要な技術です。特に近年スパッタリングは、プラズマ技術の向上により、用途が大きく拡大してきました。スパッタリングと真空蒸着プロセスを融合した新規なプロセスも出てきました。最近急激に実用化が始まった有機ELディスプレイや車の自動運転技術用センサーなどにも、真空成膜は重要なプロセスとなっています。スパッタの新しい技術としてHIPIMS電源なども注目を集めています。
 本講座では、真空薄膜プロセスを普段利用している場合の生産現場にて抱えるトラブルなどについても、質問時間を十分確保して、丁寧に解説する予定です。

本講座の申込み受付は終了しました

セミナー詳細

開催日時
  • 2018年08月10日(金) 10:30 ~ 17:30
開催場所 日本テクノセンター研修室
カテゴリー 加工・接着接合・材料
受講対象者 ・現在薄膜製品を作っている現場の技術者の方
・薄膜開発の技術者、管理者の方
・製品の内製化を検討されている技術者の方
 (電子部品、光学部品、センサー、回路、ELディスプレイ、表示デバイス、磁気記録、圧電材料、太陽電池、工具など)
予備知識 ・高校卒業レベルの、化学、物理の知識
・真空に関わる基礎知識
修得知識 ・真空薄膜プロセスに関する基礎技術
・スパッタプロセスに関する最新技術 特に反応性スパッタ
・高速成膜の基礎及び制御方法
・ロータリーカソードの構造、原理、低ダメージの原理など
・真空薄膜コーティングでのトラブル対処
プログラム

1.真空成膜プロセス概要
  ・真空成膜プロセスの基礎について解説します

2.真空蒸着
  (1).原理
  (2).成膜メカニズム
  (3).最新トピックス

3.イオンプレーティング
  (1).なぜプラズマが必要か?
  (2).イオンプレーティングの種類
  (3).高密度プラズマガンを利用した成膜

4.スパッタリング
  (1).スパッタリングの原理
  (2).蒸着膜とスパッタ膜の違い
  (3).ロールコーターとインラインコーター

5.最新スパッタリングの技術
  (1).パルス電源
    a.アーキングの原理
    b.パルスの種類
    c.パルスと膜構造
    d.HIPIMS電源
  (2).マグネトロン技術
    a.アンバランスドマグネトロン
    b.磁力線分布
  (3).カソード技術
    a.ロータリーカソード
    b.デュアルカソード
    c.低ダメージカソード
  (4).高速成膜技術
    a.反応性スパッタ
    b.ヒステリシス曲線
    c.プラズマエミッション制御

6.応用商品
  (1).透明導電膜
  (2).バリア膜
  (3).ソーラーコントロール膜
  (4).光学膜
  (5).その他トピックス

キーワード 真空成膜 スパッタリング 蒸着プロセス プラズマガン パルス電源 マグネトロン カソード プラズマエミッション制御 透明導電膜 バリア膜 光学膜 
タグ 真空薄膜表面処理・めっき
受講料 一般 (1名):48,600円(税込)
同時複数申込の場合(1名):43,200円(税込)
会場
日本テクノセンター研修室
〒 163-0722 東京都新宿区西新宿2-7-1 小田急第一生命ビル(22階)
- JR「新宿駅」西口から徒歩10分
- 東京メトロ丸ノ内線「西新宿駅」から徒歩8分
- 都営大江戸線「都庁前駅」から徒歩5分
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666
こちらのセミナーは現在募集を締め切っております。
次回開催のお知らせや、類似セミナーに関する情報を希望される方は、以下よりお問合せ下さい。
contact us contact us
各種お問い合わせは、お電話でも受け付けております。
03-5322-5888

営業時間 月~金:9:00~17:00 / 定休日:土日・祝日