CMP技術の基礎と超精密研磨加工への応用

〜 研磨・CMPの基礎、定量評価の手法、超精密研磨のメカニズム分析、難加工材の応用、新しい研磨加工技術 〜

  • CMPの基礎から最新技術まで、理論と実務経験に基づき2名の講師が解説する講座!
  • 超精密研磨・CMPのメカニズムやモニタリング技術について学び、高精度な実研磨プロセスに応用するための講座!

講師の言葉

 超精密研磨・CMPは未だ「見えない謎」が多くあります。その「見えない謎」を少しでも解明できるよう、一緒に考えていきましょう。ポイントは「研磨の見える化」。ここでは、研磨パッド表面性状評価法や接触界面におけるスラリー流れ場評価法などを用いて定量評価する手法を解説しつつ、「見えた」結果から何を見出せるか、研磨・CMPのメカニズムに迫ります。

 さらに、実研磨プロセス(取り分け、難加工基板)にそのメカニズムを応用・考察した場合、どのようなことを見出せるか、新しい発見を見つけましょう。

 サファイアやSiC等をはじめとする難加工基板は窒化物LEDやパワー半導体デバイスを作製するための下地基板として近年脚光を浴びています。本セミナーでは、このような難加工基板製造を理解するための基礎となる研磨・CMPによる基板加工技術について基礎理論を解説します。

 ここでは、サファイアの基板加工技術に重点を置いて、基板加工技術の基礎から応用までを解説します。また、講師らによる最新の分析結果についても講義し、参加者各位の理解を深めます。

セミナー詳細

開催日時
  • 2018年03月19日(月) 10:30 ~ 17:00
開催場所 日本テクノセンター研修室
カテゴリー 加工・接着接合・材料
受講対象者 ・電子部品、基板、半導体、精密部品加工および研磨剤製造に携わる技術者・研究者の方 ・研磨・CMPを理解しようとする方
予備知識 ・特に必要ありません
修得知識 ・研磨・CMPの基礎とともに、難基板加工の一般的・基礎的な流れを理解し、サファイア基板やSiC基板、さらにはGaN基板やダイヤモンド基板などに特化した事例の紹介を踏まえることで、材料特有の加工難易度・現状や課題・対応策を修得する
プログラム

1.研磨・CMPによる基板加工技術の基礎

  (1).単結晶素材の基板加工技術の基礎

    a.一般的な基板加工の流れ

    b.研磨加工技術の分類と超精密ポリシング(CMP)の位置づけ

    c.アプリケーションプロセスから見た基板加工技術の在り方

  (2).研磨加工技術の基礎

    a.プレストンの法則

    b.研磨パッドと基板相互間での研磨圧力と相対摩擦速度の基礎

    c.プレストンの法則に従った加工例

  (3).研磨・CMPの基礎

    a.研磨・CMPにおける消耗副資材の役割

    b.消耗副資材の選定方法とそのトレンド

    c.研磨条件の一般的な基本的選定法

  (4).難加工基板に用いられる研磨装置

    a.難加工基板の標準研磨プロセスと研磨装置の構成

    b.メカニカルポリッシングで用いられる研磨装置

    c.超精密ポリシング(CMP)で用いられる研磨装置

2.研磨・CMPにおけるメカニズムとその応用

  (1).In−situ計測技術を導入した最新モニタリング研磨加工技術

  (2).研磨パッド表面性状のモニタリング技術

  (3).研磨中におけるスラリー(研磨液)流れ場のモニタリング技術

  (4).各種モニタリング結果例

  (5).モニタリング結果のマルチ分析に基づく研磨メカニズムと消耗副資材選定のヒン

      ト

3.難加工材の研磨加工 〜窒化ガリウムやダイヤモンドを例として〜

  (1).次世代デバイスに用いられる難加工結晶材

  (2).窒化ガリウム基板の研磨ダメージ解析

  (3).窒化ガリウム基板の超精密ポリシング(CMP)の高速化

  (4).難加工結晶素材のための新しい研磨加工技術

  (5).究極の難加工材料(ダイヤモンド)の研磨技術

  (6).注目されるアシスト研磨法

キーワード 難加工基板 サファイア GaN 研磨 CMP 超精密ポリシング プレストン則 モニタリング 研磨ダメージ解析
タグ 金属加工研磨電子部品
受講料 一般 (1名):48,600円(税込)
同時複数申込の場合(1名):43,200円(税込)
会場
日本テクノセンター研修室
〒 163-0722 東京都新宿区西新宿2-7-1 小田急第一生命ビル(22階)
- JR「新宿駅」西口から徒歩10分
- 東京メトロ丸ノ内線「西新宿駅」から徒歩8分
- 都営大江戸線「都庁前駅」から徒歩5分
電話番号 : 03-5322-5888
FAX : 03-5322-5666
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