精密洗浄の基礎と効果的洗浄法および残存汚れの定量的評価・測定法

〜汚れの除去メカニズムと再付着防止、洗浄剤の種類と特徴、効果的洗浄法、汚れの定量測定法および分析法〜

・歩留まり確保のための効果的な洗浄法を習得するセミナー！

・精密洗浄の基礎知識を理解し、被洗浄物や汚れに適合した洗浄剤や洗浄手法を実務に活かす特別セミナー！

・洗浄トラブル解決の手法やプロセスを講師の豊富な経験から学べる特別セミナー！

講師の言葉

　高機能な精密製品の製造における加工や処理において、表面のきれいさが歩留まりに大きく影響するため効果的に汚れの除去をおこなう洗浄は重要な「モノづくり」技術の一つになっている。洗浄に従事する技術者が被洗浄物の適切かつ効果的な洗浄プロセスを構築したり、あるいは取り組んでいる洗浄におけるトラブルを解決するには精密洗浄の基礎知識を理解し、被洗浄物や汚れに適合した洗浄剤や洗浄手法を選択できることが必要である。また選択した方法や条件が要求を満足するかどうかを評価するには、洗浄後の残存汚れを適切な分析方法で定量して確認することが必要である。
　本講ではそうしたことに役立つ技術知識を解説する。

セミナー詳細

開催日時	2017年11月01日(水) 10:30 ～ 17:30
開催場所	日本テクノセンター研修室
カテゴリー	化学・環境・異物対策
受講対象者	・現在および今後洗浄技術に関わる技術者・製品の洗浄、精密洗浄担当者・製品の品質・管理部門担当・各種機器・装置メーカーの生産技術者、資材・購買担当者、開発設計者、研究者・電子材料・部品製造部門　ICパッケージ、HDD、磁気ヘッド、水晶振動子、コンデンサ、セラミック基板、ガラス、樹脂・電池部門　太陽電池、燃料電池・MEMS部門　　センサー、DMD、微少ノズル・光学材料、光学部品部門　　光学レンズ、光学系フィルタ、プリズム、ミラー、光ファイバー・実装部門　　プリント基板、フリップチップ実装基板・ディスプライ部門　　有機EL、LCD、PDP、低温polyシリコン、ガラス基盤・半導体部門　　システムLSI、CCD ・金属部品・精密部品部門　　ねじ、ビス、切削部品、自動車部品　・製造装置部門　　電子部品製造装置、半導体製造装置、真空装置、塗料・カーボン製造ライン
予備知識	・大学教養課程レベルの物理および化学
修得知識	・精密洗浄プロセス構築や洗浄トラブル解決に役立つ技術知識・精密洗浄技術についての基本知識・汚れの種類と対応する洗浄剤・洗浄手法・洗浄手法の基礎（化学的洗浄法、物理的洗浄法）・洗浄の評価方法・残存汚れの定量化手法
プログラム	１．工業洗浄の目的と目標２．汚れとは　　（１）．汚れの種類と具体例　　（２）．汚れの付着形態と付着力　　（３）．ファンデルワールス力とHAMAKER定数３．汚れの除去メカニズムと再付着防止　　（１）．汚れの溶解、可溶化　　（２）．汚れの分解　　（３）．物理作用力による剥離　　（４）．付着固体面の表層エッチング　　（５）．ゼータ電位制御４．洗浄剤の種類と特徴　　（１）．水系洗浄剤　　　　a．アルカリ洗浄剤　　　　b．中性洗浄剤　　　　c．酸性洗浄剤　　　　d．機能水　　（２）．非水系（溶剤）洗浄剤　　　　a．可燃性洗浄剤（炭化水素系溶剤、アルコール系溶剤）　　　　b．不燃性洗浄剤（塩素系、フッ素系、臭素系溶剤）　　（３）．準水系洗浄剤　　　　a．グリコールエーテル＋水混合洗浄剤５．効果的洗浄法　　（１）．湿式洗浄　　　　a．ブラシ洗浄法　　　　b．噴射洗浄法　　　　c．二流体噴射洗浄法　　　　d．超音波洗浄法　　　　e．マイクロバブル洗浄法　　　　f．機械振動攪拌洗浄法　　　　g．真空（圧力スイング）洗浄法　　（２）．乾式洗浄　　　　a．光洗浄　　　　b．大気圧プラズマ洗浄　　　　c．パルスレーザー洗浄　　　　d．超臨界炭酸ガス流体洗浄６．リンスと乾燥　　（１）．リンスの要点　　（２）．しみを作らない乾燥　　　　a．遠心力乾燥　　　　b．蒸気乾燥　　　　c．マランゴニ乾燥７．洗浄評価の目的　　（１）．清浄度目標達成の確認　　（２）．洗浄効果の評価８．簡易洗浄評価法　　（１）．水濡れ性による評価　　（２）．接触角測定　　（３）．拭き取り法　　（４）．テープ剥離法９．汚れの定量測定法　　（１）．有機汚れの定量法　　　　a．サンプリング法　　　　b．紫外吸光度法　　　　c．ガスクロマト法（GC−MS法）　　　　d．赤外多重反射測定法　　（２）．残存粒子計測法　　　　a．顕微鏡法　　　　b．光散乱計数法　　（３）．金属汚れ定量法　　　　a．微量金属汚れのサンプリング法　　　　b．フレームレス原子吸光法　　　　c．誘導結合プラズマ質量分析法（ICP−MS）　　　　d．全反射蛍光X線分析法　　（４）．イオン汚れの定量法　　　　a．イオン汚れのサンプリング法　　　　b．イオンクロマト法１０．表面分析による微量汚れの検出　　（１）．オージェ電子、光電子分光法　　（２）．二次イオン質量分析法
キーワード	残存汚れ　洗浄法　精密洗浄　工業洗浄　汚れの分解　洗浄剤　汚れの定量測定法　簡易洗浄評価法　マイクロバブル洗浄
タグ	化学物質、洗浄、表面処理・めっき
受講料	一般 (1名)：49,500円(税込) 同時複数申込の場合(1名)：44,000円(税込)
会場	日本テクノセンター研修室〒 163-0722 東京都新宿区西新宿２－７－１　新宿第一生命ビルディング（２２階） - JR「新宿駅」西口から徒歩10分 - 東京メトロ丸ノ内線「西新宿駅」から徒歩8分 - 都営大江戸線「都庁前駅」から徒歩5分電話番号 : 03-5322-5888 FAX : 03-5322-5666

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