〜 対向拡散CVD法による製膜技術、水素・メタン・二酸化炭素・酸・アルカリの分離技術への応用 〜
・省エネルギーで高温水素から強酸液体分離まで可能とするシリカ系分離膜技術を応用するための講座
・原料の拡散が制御させるため均質な処理が可能で選択透過特性の優れたシリカ系分離膜を先取りし、プロセス化を実現しよう！
・分離膜を燃焼を伴う反応系へ適用することで熱効率を向上させることも可能です
シリカ系分離膜の基礎と製膜ノウハウおよびガス分離・液体分離への応用
講師の言葉
省エネルギー分離技術として膜分離法が注目されています。近年では、シリカ系などを膜素材とした無機系分離膜の開発が、プロセス化レベルにまで進んで来ています。
本講座では、無機系分離膜の最先端の分離性能および製膜ノウハウについて講演いたします。無機ガスの水素分離やメタンなど多種の炭化水素分離、酸やアルカリなどの液体分離に関する様々な膜の情報を説明する予定です。さらに、それら分離膜のプロセス化の可能性について解説いたします。
セミナー詳細
| 開催日時 |
|
|---|---|
| 開催場所 | 日本テクノセンター研修室 |
| カテゴリー | 化学・環境・異物対策 |
| 受講対象者 | ・水処理、水素製造、燃料電池、エネルギー、プラント他関連企業の方 ・省エネルギー分離法に興味がある研究者・技術者の方 |
| 予備知識 | ・大学卒業レベルの基礎的な化学工学・物理化学の知識 |
| 修得知識 | ・無機分離膜の基礎 ・膜分離プロセスの理解 |
| プログラム |
１．無機分離膜の基礎 ２．シリカ系分離膜 ３．ガス分離への応用 ４．液体分離への応用 ５．無機分離膜のプロセス化 ６．総まとめ＆総括質疑 |
| キーワード | 無機分離膜 シリカ系分離膜 対向拡散CVD法 ガス分離 液体分離 プロセス化 |
| タグ | エネルギー、ガス、化学、化学工学、攪拌・濾過・蒸留、水素、膜、水処理、電気化学、電池 |
| 受講料 |
一般 (1名)：49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名)：44,000円(税込) |
| 会場 |
日本テクノセンター研修室〒 163-0722 東京都新宿区西新宿２－７－１ 新宿第一生命ビルディング（２２階）- JR「新宿駅」西口から徒歩10分 - 東京メトロ丸ノ内線「西新宿駅」から徒歩8分 - 都営大江戸線「都庁前駅」から徒歩5分 電話番号 : 03-5322-5888 FAX : 03-5322-5666 |
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