工業洗浄・精密清浄技術の基礎と応用事例およびそのノウハウ

講師の言葉

(第１部）

　溶剤取扱に携わる関係者は、地球環境の保全、曳いては仕事上に反映できるように知識を身につけていただきたい。本来、理想的には洗浄剤と処理対象物とは、化学的変化を起こすものでなく、従って洗浄剤は消費されない。洗浄剤と汚れ成分を分離することが容易であれば洗浄剤は装置内で無限に再利用できる。洗浄の理想は、洗浄装置にワークを投入すれば、洗浄されたワークと、分離された汚れ成分が変化なくそれぞれが取り出されることである。このような洗浄装置では、洗浄剤の補給の必要はなく、ワークの汚れ物質のみが排出される。洗浄剤の環境への排出がないのであるから、基本的に環境への影響はなく、使用溶剤の種類は問われない。理想のシステム、装置に向かって改革を進めるための技術を習得する一助になればと願って講義をさせていただきます。

（第２部）

　高機能、高信頼性を必要とする精密製品として半導体デバイスをはじめとして種々な製品が生産されていますが、その生産プロセスにおいてワークに僅かでも汚染物の存在を許すと製品欠陥の原因になってしまいます。歩留まりを落とさずに生産するにはワークの加工や処理を清浄な状態で行う必要があり、汚染を除去する精密洗浄の役割は重要です。
　一般の洗浄と違って精密洗浄は、サブミクロンの微粒子の除去、吸着膜レベルの有機汚染物の除去、半導体特性を損なう微量金属汚染の除去を要求される表面清浄度を実現させるまで行い、しかも被洗浄面にダメージを与えないで行う必要があるため適用される洗浄法は限定されています。本セミナーではそれらの洗浄法について汚染対象別に概要、効果、特徴などを解説します。これらの知識は目的とする精密洗浄プロセスを構築するのに役立ちます。

こちらのセミナーは受付を終了しました。

次回開催のお知らせや、類似セミナーに関する情報を希望される方は、以下よりお問合せ下さい。