〜リソグラフィの基礎、レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術〜
- リソグラフィ工程における、材料面とプロセス面からの問題解決に活かすための講座！
- リソグラフィの基礎から習得し、レジスト材料の高性能化、レジスト膜の評価、プロセスの最適化、トラブル解決に活かそう！
リソグラフィおよびレジスト技術の基礎とプロセス改善・トラブル解決策
講師の言葉
フォトレジストを用いるリソグラフィーは、半導体、ディスプレイ、MEMSなど様々なデバイス製造に必須の技術であり、材料・装置・プロセスの各面から目覚ましい進歩を遂げている。
本講座ではレジスト材料を製造、使用する方々、リソグラフィープロセスでトラブルを抱えている方々を対象に、材料設計、プロセスの最適化、各種トラブル解決策を中心に丁寧に解説します。
特に研究開発、デバイス製造、市場開拓といった実務上での取り組み方について、実例を交えて解説します。
セミナー詳細
| 開催日時 |
|
|---|---|
| 開催場所 | 日本テクノセンター研修室 |
| カテゴリー | 電気・機械・メカトロ・設備 |
| 受講対象者 | （１）基板、半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売 （２）レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売 上記に従事されている技術者の担当者、リーダー、主任、係長クラスの方 |
| 予備知識 | 特に必要ありません。基礎から応用まで、幅広く解説します。 |
| 修得知識 | ・レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法 ・レジストの品質管理手法 ・レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力 ・リソグラフィープロセスの最適化方法 ・リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応能力 |
| プログラム |
１． リソグラフィの基礎
２． レジスト材料とその高性能化
３． レジスト製造技術と品質管理
４． レジスト材料の評価技術
５． レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
６． 20nm以下のリソグラフィー技術 |
| キーワード | リソグラフィ レジスト膜 性能評価 露光システム DSA ダブルパターンニング DSA |
| タグ | ディスプレイ、プリント基板 |
| 受講料 |
一般 (1名)：49,500円(税込)
同時複数申込の場合(1名)：44,000円(税込) |
| 会場 |
日本テクノセンター研修室〒 163-0722 東京都新宿区西新宿２－７－１ 新宿第一生命ビルディング（２２階）- JR「新宿駅」西口から徒歩10分 - 東京メトロ丸ノ内線「西新宿駅」から徒歩8分 - 都営大江戸線「都庁前駅」から徒歩5分 電話番号 : 03-5322-5888 FAX : 03-5322-5666 |
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